光学 精密工程, 2010, 18 (12): 2530, 网络出版: 2011-01-26
溅射法制备多层膜沉积速率的标定
Calibration of deposition rates of multilayer coatings by sputtering depositions
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | O484.4 |
| 栏目: | 现代应用光学 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金资助项目(No.60678034)、国家科技重大专项资助项目 |
| 收稿日期: | 2010-04-06 |
| 修改稿日期: | 2010-10-21 |
| 网络出版日期: | 2011-01-26 |
| 通讯作者: | |
| 备注: | -- |
张立超. 溅射法制备多层膜沉积速率的标定[J]. 光学 精密工程, 2010, 18(12): 2530. ZHANG Li-chao. Calibration of deposition rates of multilayer coatings by sputtering depositions[J]. Optics and Precision Engineering, 2010, 18(12): 2530.
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