13.5 nm放电Xe等离子体极紫外光源

赵永蓬; 徐强; 李琦; 王骐

doi:doi:10.3788/CJL201845.1100001

中国激光, 2018, 45 (11): 1100001, 网络出版: 2018-11-15

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13.5 nm Extreme Ultraviolet Light Source Based on Discharge Produced Xe Plasma

赵永蓬 ^1,*徐强 ^1,2李琦 ¹王骐 ¹

作者单位

¹ 哈尔滨工业大学可调谐激光技术国家级重点实验室，黑龙江哈尔滨 150080

² 东北林业大学理学院，黑龙江哈尔滨 150040

引用该论文

赵永蓬, 徐强, 李琦, 王骐. 13.5 nm放电Xe等离子体极紫外光源[J]. 中国激光, 2018, 45(11): 1100001.

Zhao Yongpeng, Xu Qiang, Li Qi, Wang Qi. 13.5 nm Extreme Ultraviolet Light Source Based on Discharge Produced Xe Plasma[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(11): 1100001.

引用列表

1、基于碳纳米管泡沫的高效宽谱极紫外辐射光学学报, 2022, 42 (11): 1134021

2、结构锡靶激光等离子体极紫外光辐射特性研究中国激光, 2021, 48 (16): 1601005

3、飞秒激光场中原子/分子的隧道电离及应用中国激光, 2019, 46 (5): 0508017

赵永蓬, 徐强, 李琦, 王骐. 13.5 nm放电Xe等离子体极紫外光源[J]. 中国激光, 2018, 45(11): 1100001. Zhao Yongpeng, Xu Qiang, Li Qi, Wang Qi. 13.5 nm Extreme Ultraviolet Light Source Based on Discharge Produced Xe Plasma[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(11): 1100001.

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