13.5 nm放电Xe等离子体极紫外光源

赵永蓬; 徐强; 李琦; 王骐

doi:doi:10.3788/CJL201845.1100001

中国激光, 2018, 45 (11): 1100001, 网络出版: 2018-11-15

13.5 nm放电Xe等离子体极紫外光源下载： 1949次封面文章

13.5 nm Extreme Ultraviolet Light Source Based on Discharge Produced Xe Plasma

赵永蓬 ^1,*徐强 ^1,2李琦 ¹王骐 ¹

作者单位

¹ 哈尔滨工业大学可调谐激光技术国家级重点实验室，黑龙江哈尔滨 150080

² 东北林业大学理学院，黑龙江哈尔滨 150040

图 & 表

图 1. 放电Xe等离子体极紫外光源的实验装置结构

Fig. 1. Structural diagram of experimental setup of EUV light source based on discharge produced Xe plasma

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图 2. 主脉冲电源电路图

Fig. 2. Circuit diagram of main pulse power supply

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图 3. 典型的主脉冲电压和电流波形

Fig. 3. Typical voltage and current waveforms of main pulse

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图 4. Xe和He等离子体辐射的极紫外光谱

Fig. 4. EUV spectra emitted from Xe and He plasma

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图 5. 主脉冲电流波形和13.5 nm辐射随时间的变化

Fig. 5. Current waveform of main pulse and 13.5 nm radiation versus time

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图 6. 13.5 nm辐射和等离子体半径随时间的变化

Fig. 6. 13.5 nm radiation and plasma radius versus time

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图 7. 13.5 nm辐射强度随主脉冲电流的变化

Fig. 7. 13.5 nm radiation intensity versus current of main pulse

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图 8. 13.5 nm辐射光强随Xe气流量的变化

Fig. 8. 13.5 nm radiation intensity versus Xe flow rate

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图 9. 不同陶瓷管内径条件下的Xe等离子体辐射极紫外光谱

Fig. 9. EUV spectra emitted from Xe plasma under different ceramic tube diameters

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图 10. 不同等离子体长度条件下的Xe等离子体辐射极紫外光谱

Fig. 10. EUV spectra emitted from Xe plasma with different plasma lengths

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图 11. 不同He/Xe流量比条件下的等离子体辐射光谱

Fig. 11. EUV spectra emitted from plasma under different He/Xe flow rate ratios

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图 12. 13.5 nm辐射光强随He、Xe流量比的变化

Fig. 12. 13.5 nm radiation intensity versus He/Xe flow rate ratio

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图 13. Xe/Ar混合气体和纯Xe条件下的等离子体辐射光谱

Fig. 13. EUV spectra emitted from plasma under Xe/Ar mixed gas and pure Xe conditions

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图 14. 放电Xe等离子体极紫外光源样机的结构

Fig. 14. Structural diagram of EUV light source prototype based on discharge produced Xe plasma

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图 15. 多层金属箔片去碎屑系统的实物

Fig. 15. Picture of debris mitigation tool of multilayer metal foil

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图 16. 10层收集镜系统的光路图

Fig. 16. Diagram of optical path for 10 layer collector system

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图 17. 精车和手工抛光后的收集镜实物

Fig. 17. Picture of collector after finish turning and polishing by hand

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图 18. 重复频率为1 kHz的放电Xe等离子体极紫外光源样机的实物

Fig. 18. Picture of EUV light source prototype based on discharge produced Xe plasma at repetition frequency of 1 kHz

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图 19. 放电Xe等离子体极紫外辐射光谱

Fig. 19. EUV spectrum emitted from discharge produced Xe plasma

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图 20. 13.5 nm辐射光脉冲和主脉冲电流波形

Fig. 20. 13.5 nm radiation light pulse and current waveform of main pulse

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赵永蓬, 徐强, 李琦, 王骐. 13.5 nm放电Xe等离子体极紫外光源[J]. 中国激光, 2018, 45(11): 1100001. Zhao Yongpeng, Xu Qiang, Li Qi, Wang Qi. 13.5 nm Extreme Ultraviolet Light Source Based on Discharge Produced Xe Plasma[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(11): 1100001.

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图 1. 放电Xe等离子体极紫外光源的实验装置结构

Fig. 1. Structural diagram of experimental setup of EUV light source based on discharge produced Xe plasma

图 2. 主脉冲电源电路图

Fig. 2. Circuit diagram of main pulse power supply

图 3. 典型的主脉冲电压和电流波形

Fig. 3. Typical voltage and current waveforms of main pulse

图 4. Xe和He等离子体辐射的极紫外光谱

Fig. 4. EUV spectra emitted from Xe and He plasma

图 5. 主脉冲电流波形和13.5 nm辐射随时间的变化

Fig. 5. Current waveform of main pulse and 13.5 nm radiation versus time

图 6. 13.5 nm辐射和等离子体半径随时间的变化

Fig. 6. 13.5 nm radiation and plasma radius versus time

图 7. 13.5 nm辐射强度随主脉冲电流的变化

Fig. 7. 13.5 nm radiation intensity versus current of main pulse

图 8. 13.5 nm辐射光强随Xe气流量的变化

Fig. 8. 13.5 nm radiation intensity versus Xe flow rate

图 9. 不同陶瓷管内径条件下的Xe等离子体辐射极紫外光谱

Fig. 9. EUV spectra emitted from Xe plasma under different ceramic tube diameters

图 10. 不同等离子体长度条件下的Xe等离子体辐射极紫外光谱

Fig. 10. EUV spectra emitted from Xe plasma with different plasma lengths

图 11. 不同He/Xe流量比条件下的等离子体辐射光谱

Fig. 11. EUV spectra emitted from plasma under different He/Xe flow rate ratios

图 12. 13.5 nm辐射光强随He、Xe流量比的变化

Fig. 12. 13.5 nm radiation intensity versus He/Xe flow rate ratio

图 13. Xe/Ar混合气体和纯Xe条件下的等离子体辐射光谱

Fig. 13. EUV spectra emitted from plasma under Xe/Ar mixed gas and pure Xe conditions

图 14. 放电Xe等离子体极紫外光源样机的结构

Fig. 14. Structural diagram of EUV light source prototype based on discharge produced Xe plasma

图 15. 多层金属箔片去碎屑系统的实物

Fig. 15. Picture of debris mitigation tool of multilayer metal foil

图 16. 10层收集镜系统的光路图

Fig. 16. Diagram of optical path for 10 layer collector system

图 17. 精车和手工抛光后的收集镜实物

Fig. 17. Picture of collector after finish turning and polishing by hand

图 18. 重复频率为1 kHz的放电Xe等离子体极紫外光源样机的实物

Fig. 18. Picture of EUV light source prototype based on discharge produced Xe plasma at repetition frequency of 1 kHz

图 19. 放电Xe等离子体极紫外辐射光谱

Fig. 19. EUV spectrum emitted from discharge produced Xe plasma

图 20. 13.5 nm辐射光脉冲和主脉冲电流波形

Fig. 20. 13.5 nm radiation light pulse and current waveform of main pulse

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