13.5 nm放电Xe等离子体极紫外光源 | 中国激光 -- 中国光学期刊网

中国激光, 2018, 45 (11): 1100001, 网络出版: 2018-11-15

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13.5 nm Extreme Ultraviolet Light Source Based on Discharge Produced Xe Plasma

赵永蓬 ^1,*徐强 ^1,2李琦 ¹王骐 ¹

作者单位

¹ 哈尔滨工业大学可调谐激光技术国家级重点实验室，黑龙江哈尔滨 150080

² 东北林业大学理学院，黑龙江哈尔滨 150040

X射线光学极紫外光源放电等离子体极紫外光刻 X-ray optics EUV light source discharge produced plasma Xe Xe EUV lithography

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