中国激光, 2018, 45 (11): 1100001, 网络出版: 2018-11-15
13.5 nm放电Xe等离子体极紫外光源 
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13.5 nm Extreme Ultraviolet Light Source Based on Discharge Produced Xe Plasma
基本信息
| DOI: | 10.3788/CJL201845.1100001 |
| 中图分类号: | O434.2 |
| 栏目: | 综述 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金重点项目(60838005)、国家科技02重大专项子课题（2008ZX02501-001） |
| 收稿日期: | 2018-05-28 |
| 修改稿日期: | 2018-06-23 |
| 网络出版日期: | 2018-11-15 |
| 通讯作者: | 赵永蓬 (zhaoyp3@hit.edu.cn) |
| 备注: | -- |
赵永蓬, 徐强, 李琦, 王骐. 13.5 nm放电Xe等离子体极紫外光源[J]. 中国激光, 2018, 45(11): 1100001. Zhao Yongpeng, Xu Qiang, Li Qi, Wang Qi. 13.5 nm Extreme Ultraviolet Light Source Based on Discharge Produced Xe Plasma[J]. Chinese Journal of Lasers, 2018, 45(11): 1100001.
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