碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响

王依; 卢启鹏; 高云国

doi:doi:10.3788/cjl201744.0303004

中国激光, 2017, 44 (3): 0303004, 网络出版: 2017-03-08

碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响

Impact of Carbon Contamination Cleaning Technologies on Reflectivity of Extreme Ultraviolet Lithography Optics

王依 ^1,2卢启鹏 ¹高云国 ¹

作者单位

¹ 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室, 吉林长春130033

² 中国科学院大学, 北京 100049

图 & 表

王依, 卢启鹏, 高云国. 碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响[J]. 中国激光, 2017, 44(3): 0303004. Wang Yi, Lu Qipeng, Gao Yunguo. Impact of Carbon Contamination Cleaning Technologies on Reflectivity of Extreme Ultraviolet Lithography Optics[J]. Chinese Journal of Lasers, 2017, 44(3): 0303004.