光散射学报, 2008, 20 (3): 258, 网络出版: 2014-01-21
532nm连续激光晶化非晶硅薄膜的原位拉曼光谱研究
In-situ Raman Spectroscopic Study on the Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films with a 532 nm Continuous-wave Laser
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | TG156.99 |
| 栏目: | 材料研究中的应用 |
| 项目基金: | 河南省杰出人才基金(0121001200) |
| 收稿日期: | 2008-04-10 |
| 修改稿日期: | 2008-04-21 |
| 网络出版日期: | 2014-01-21 |
| 通讯作者: | 徐二明 (ejliang@zzu.edu.cn) |
| 备注: | -- |
徐二明, 袁超, 王俊平, 霍浩磊, 梁二军. 532nm连续激光晶化非晶硅薄膜的原位拉曼光谱研究[J]. 光散射学报, 2008, 20(3): 258. XU Er-ming, Yuan Chao, WANG Jun-ping, HUO Hao-lei, LIANG Er-jun. In-situ Raman Spectroscopic Study on the Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films with a 532 nm Continuous-wave Laser[J]. The Journal of Light Scattering, 2008, 20(3): 258.
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