脉冲激光沉积制备TiO<sub>2</sub>薄膜的性能

邢晓; 王文军; 李淑红; 刘云龙; 张栋; 史强; 高学喜; 张丙元

doi:doi:10.3788/cjl201340.0207001

中国激光, 2013, 40 (2): 0207001, 网络出版: 2013-01-14

脉冲激光沉积制备TiO₂薄膜的性能

Properties of TiO₂ Films Deposited by Pulsed Laser Deposition

邢晓 ^*王文军李淑红刘云龙张栋史强高学喜张丙元

作者单位

聊城大学物理科学与信息工程学院，山东省光通信科学与技术重点实验室，山东聊城 252059

引用该论文

邢晓, 王文军, 李淑红, 刘云龙, 张栋, 史强, 高学喜, 张丙元. 脉冲激光沉积制备TiO₂薄膜的性能[J]. 中国激光, 2013, 40(2): 0207001.

Xing Xiao, Wang Wenjun, Li Shuhong, Liu Yunlong, Zhang Dong, Shi Qiang, Gao Xuexi, Zhang Bingyuan. Properties of TiO₂ Films Deposited by Pulsed Laser Deposition[J]. Chinese Journal of Lasers, 2013, 40(2): 0207001.

引用列表

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