中国激光, 2013, 40 (2): 0207001, 网络出版: 2013-01-14   

脉冲激光沉积制备TiO2薄膜的性能

Properties of TiO2 Films Deposited by Pulsed Laser Deposition
作者单位
聊城大学物理科学与信息工程学院, 山东省光通信科学与技术重点实验室, 山东 聊城 252059
基本信息
DOI: 10.3788/cjl201340.0207001
中图分类号: O484.4
栏目: 材料与薄膜
项目基金: --
收稿日期: 2012-09-07
修改稿日期: 2012-10-20
网络出版日期: 2013-01-14
通讯作者: 邢晓 (xingxiao2010@163.com)
备注: --

邢晓, 王文军, 李淑红, 刘云龙, 张栋, 史强, 高学喜, 张丙元. 脉冲激光沉积制备TiO2薄膜的性能[J]. 中国激光, 2013, 40(2): 0207001. Xing Xiao, Wang Wenjun, Li Shuhong, Liu Yunlong, Zhang Dong, Shi Qiang, Gao Xuexi, Zhang Bingyuan. Properties of TiO2 Films Deposited by Pulsed Laser Deposition[J]. Chinese Journal of Lasers, 2013, 40(2): 0207001.

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