严格电磁场波导方法的三维厚胶光刻工艺仿真

王禹欣; 周再发; 华杰; 王飞; 徐焕文; 黄庆安

doi:doi:10.11884/hplpb201628.064102

强激光与粒子束, 2016, 28 (6): 064102, 网络出版: 2016-04-12

严格电磁场波导方法的三维厚胶光刻工艺仿真

Rigorous electromagnetic field model based on waveguide method for 3D thick resist lithography simulation

王禹欣 ^*周再发华杰王飞徐焕文黄庆安

作者单位

东南大学电子科学与工程学院, MEMS教育部重点实验室, 南京 210096

补充材料

王禹欣, 周再发, 华杰, 王飞, 徐焕文, 黄庆安. 严格电磁场波导方法的三维厚胶光刻工艺仿真[J]. 强激光与粒子束, 2016, 28(6): 064102. Wang Yuxin, Zhou Zaifa, Hua Jie, Wang Fei, Xu Huanwen, Huang Qing’an. Rigorous electromagnetic field model based on waveguide method for 3D thick resist lithography simulation[J]. High Power Laser and Particle Beams, 2016, 28(6): 064102.