作者单位
摘要
1 西安工业大学 光电工程学院, 陕西 西安 710021
2 惠州市华阳多媒体电子有限公司, 广东 惠州 516005
设计完成了一款具有特定结构的光阑, 光阑孔径深度设计为15mm, 光阑孔径张角设计为左右张角各为10°, 上方张角设计为6.5°, 下方张角设计为3°, 光阑安装在一级反射镜后, 光阑中心线与对应主光线重合, 同时采用双光电传感器与多温度传感器作为信号探测器接收信号幅值。通过特定孔径深度、张角等结构设计的光阑使得边界内、外幅值区分明显且幅值成正态分布, 结合传感器的使用将光照强度及像源面温度以数值显示, 便于检测标定。这检测设计光阑体积小、检测效果明显、成本低, 通过光阑与传感器的逻辑配合使用, 可以用于车载抬头显示器阳光倒灌的检测, 对车载抬头显示器行业起到一定借鉴作用。
应用光学 抬头显示器 阳光倒灌 光阑 传感器 applied optics head-up display sunlight backflow diaphragm sensor 
光学技术
2023, 49(4): 418
作者单位
摘要
广东工业大学 物理与光电工程学院,广东 广州 510006
为研究大面积激光投影光刻的调焦,利用Zemax光学设计软件模拟离焦对光程差(OPD)和调制传递函数(MTF)的影响,分析二者对投影曝光图形质量的影响,给出系统最大的离焦量值。提出一种利用显微镜的调焦方法,分析此方法的调焦误差主要来自于显微镜景深,根据景深表达式和系统最大离焦量值,选择一款景深不大于系统最大离焦量的显微镜来构建调焦系统,并基于该调焦系统进行光刻实验。实验结果表明:利用该方法对投影成像光刻进行调焦,无论是否离焦,边缘视场与中心视场的MTF均有差异,分辨率也有差异,但这种差异不影响光刻图形的质量。
投影光刻 Zemax光学设计软件 调制传递函数 离焦 调焦 projection lithography Zemax optical design software modulation transfer function defocusing zooming 
应用光学
2013, 34(3): 430
作者单位
摘要
广东工业大学物理与光电工程学院, 广州 510006
针对大面积且高密度 PCB光刻, 利用 ZEMAX光学设计软件, 设计了一种 8片式光刻投影物镜。该物镜采用对称双高斯结构, 放大倍率为 -1, 数值孔径 NA=0.06, 单次曝光面积 Φ=80 mm, 具有优于 7 μm的分辨力和 120 μm的焦深。通过对该镜头进行公差分析, 表明最紧公差为部分元件倾斜要小于 0.017°。用 Monte Carlo方法模拟了制造 50组镜头的成像质量, 得到在空间频率 72 line/mm处, 90%的镜头的 MTF>0.58, 因此加工装配时能保证 90%以上的成品率。
光刻 投影物镜 印制电路板 (PCB) ZEMAX光学设计 lithography projection objective lens printed circuit board (PCB) ZEMAX optical design 
光电工程
2013, 40(2): 100
作者单位
摘要
广东工业大学 物理与光电工程学院,广州 510006
以半导体侧泵钇铝石榴石激光器为泵浦源, 采用腔内泵浦两块三硼酸铯晶体, 产生满足高功率与高光束质量要求的三倍频355 nm紫外激光.通过使用法拉第旋转器谐振腔优化设计与热效应补偿提高输出光的光束质量, 并且使用体光栅作为输出镜, 在实现线宽窄化同时保持准相位匹配的高效性能.该光刻用紫外激光源成功地替代准分子激光器, 使用在一套大面积亚纳米级投影式光刻系统上, 工作时紫外光输出功率为4.37 W, 光束质量因子为2.27.
半导体工业 光刻技术 三硼酸铯晶体 紫外激光 Semiconductor industry Lithography technology CBO crystal Ultraviolet laser 
光子学报
2012, 41(9): 1019

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