广东工业大学 物理与光电工程学院，广东 广州 510006
为研究大面积激光投影光刻的调焦，利用Zemax光学设计软件模拟离焦对光程差（OPD）和调制传递函数（MTF）的影响，分析二者对投影曝光图形质量的影响，给出系统最大的离焦量值。提出一种利用显微镜的调焦方法，分析此方法的调焦误差主要来自于显微镜景深，根据景深表达式和系统最大离焦量值，选择一款景深不大于系统最大离焦量的显微镜来构建调焦系统，并基于该调焦系统进行光刻实验。实验结果表明：利用该方法对投影成像光刻进行调焦，无论是否离焦，边缘视场与中心视场的MTF均有差异，分辨率也有差异，但这种差异不影响光刻图形的质量。
投影光刻 Zemax光学设计软件 调制传递函数 离焦 调焦 projection lithography Zemax optical design software modulation transfer function defocusing zooming
广东工业大学物理与光电工程学院, 广州 510006
针对大面积且高密度 PCB光刻, 利用 ZEMAX光学设计软件, 设计了一种 8片式光刻投影物镜。该物镜采用对称双高斯结构, 放大倍率为 -1, 数值孔径 NA=0.06, 单次曝光面积 Φ=80 mm, 具有优于 7 μm的分辨力和 120 μm的焦深。通过对该镜头进行公差分析, 表明最紧公差为部分元件倾斜要小于 0.017°。用 Monte Carlo方法模拟了制造 50组镜头的成像质量, 得到在空间频率 72 line/mm处, 90%的镜头的 MTF>0.58, 因此加工装配时能保证 90%以上的成品率。
光刻 投影物镜 印制电路板 (PCB) ZEMAX光学设计 lithography projection objective lens printed circuit board (PCB) ZEMAX optical design
