当前主流显示技术存在着显示功耗偏高的问题, 基于MEMS辅助的显示由于可以取消偏光片和彩色滤光片的使用, 更适合于户外、低功耗类的应用。为了将基于MEMS辅助的显示器大规模制造, 将液晶显示工艺与基于MEMS辅助的显示进行材料和工艺的匹配意义重大。本文对MEMS与液晶显示加工工艺进行系统介绍, 同时分析了3种主流基于MEMS辅助的显示模式, 详细阐述了将现行规模生产 下的液晶显示工艺应用于这些基于MEMS辅助的显示技术所做的一些工作和研究进展, 并探讨了基于MEMS辅助的显示技术的发展趋势。
TFT-LCD工艺 基于MEMS辅助的显示 研究进展 TFT-LCD technology MEMS based display research development
反射显示具有超低功耗、高照度条件下易读性好、易于实现柔性、价格低廉等特点, 广泛应用于各显示领域, 包括电子纸、电子指示牌、电子货架标签、可穿戴显示等。特别是户外环境下使用的显示器件, 对低功耗、高照度条件下易读性等有着显著的需求, 因而反射类显示得到了快速的发展。为了更好地进行反射类显示的技术开发与推广, 本文系统分析了3种主流的反射类显示技术, 详细地阐述了3种主流反射类显示核心技术、显示原理与方案, 并从显示从业者的角度对反射类显示技术的开发现状及发展进行了思考。
反射显示 液晶显示 电润湿显示 电泳显示 reflective display liquid crystal display electrowetting display electrophoretic display
量子点是一种宽吸收、窄发射、荧光量子产率高的新型荧光材料, 是优秀的显示用发光材料, 研究量子点材料在显示技术上的应用有助于实现显示屏幕的高画质和轻薄化。随着人们对高色域显示的追求, 量子点材料不仅会在液晶显示屏上大量应用, 同时也将是有机发光材料的有力替代者, 未来AMQLED将与AMOLED实现归一化发展。文章详细介绍量子点光致发光以及电致发光在显示技术上的多种应用, 阐述量子点背光、量子点彩膜以及AMQLED等不同量子点显示技术的原理, 并分析不同技术的特点及其发展趋势。
量子点背光 量子点彩膜 量子点发光二极管 高色域 QD backlight QD-CF QLED High color gamut
从高像素填充因子、低噪声、高帧频、高空间分辨率及柔性五个方面对近些年X射线平板探测器背板工艺的研究进展进行了综述。通过对研究过程中的材料选择、像素结构和读出电路优化的详细阐述, 分析了X射线平板探测器背板工艺的研究现状及改善方向。文章同时从新结构、新材料、电路设计及三维探测设计四个方面给出了X射线平板探测背板技术未来的发展趋势。
平板探测器 背板工艺 性能提升 flat panel detector backplane technology performance improvement
