利用基于单光子技术的超弱发光测量系统研究了UV-B辐射对大豆愈伤组织异黄酮和超弱发光的影响,UV-B辐射的强度范围为20～80 μW/cm2.结果表明,UV-B辐射使大豆愈伤组织延迟发光初始强度和自发发光强度明显增强,随着诱导处理后时间的延长,延迟发光初始强度和自发发光强度逐渐减小,大豆异黄酮含量逐渐增加,大豆异黄酮含量的变化与延迟发光初始发光强度的变化之间呈现负相关.结果表明,UV-B辐射使大豆愈伤组织总体代谢和活性氧代谢强度提高,大豆异黄酮含量提高是自发发光和延迟发光强度降低的原因,大豆异黄酮含量的增加可以用延迟发光初始发光强度的降低来量度.

应用ANS渗入菠菜叶绿体膜后的ANS荧光光谱和光合细胞Chla荧光参数的变化研究了菠菜叶绿体膜对辐射功率密度为5 mW·cm-2以下的300 MHz低强度电磁场的辐射敏感性。 研究发现， 在1～5 mW·cm-2的低强度电磁场作用下， 菠菜叶绿体ANS荧光光谱的位置没有明显变化， 但ANS荧光强度明显增大， 表明低强度电磁场使菠菜叶绿体膜流动性变小。 1～5 mW·cm-2低强度电磁场的作用还使菠菜叶绿体发出的Chla荧光参数Ｆ０减小， ＦＶ／Ｆ０，　ＦＶ／Ｆｍ和ΔＦＶ／Ｔ增大， ＦＶＩ／ＦＶ减小， 表明低强度电磁场使菠菜叶绿体膜发生了光系统Ⅱ（PSⅡ）无活性中心向有活性中心的转变， PSⅡ潜在活性提高、 光合电子传递过程加快， 原初光能转换效率增强。 菠菜叶绿体膜ANS荧光和Chla荧光对低强度电磁场的这种辐射敏感性说明了低强度电磁场能对菠菜光合作用系统产生非热效应， 并且， 菠菜光合细胞有可能通过PSⅡ活性中心异质性的转变来适应电磁辐射增强的环境。

为了研究植物叶片光子辐射与氧化胁迫的关系，将鹅掌木叶片用不同浓度的H2O2进行了处理，从而形成氧化胁迫.实验结果表明，随着H2O2处理时间的延长，浓度为7.5%、15%和30% 的H2O2处理均使鹅掌木叶片光子辐射中的自发发光较未受处理的对照有明显增长，各处理组叶片的延迟发光动力学曲线均呈现双曲性弛豫.通过建立延迟发光非线性动力学方程和数学模拟，得到了延迟发光的特征参量初始光子数I0、相干时间τ和衰减参量β，发现随着H2O2处理时间的延长，各处理组叶片的I0都呈现先下降，后回升，再下降的波动趋势; 而浓度为7.5%和15%的两个处理组的叶片τ值和β值呈现波动变化，浓度为30%的处理组的叶片τ和β呈现单调下降的趋势.推测H2O2胁迫下叶片光子辐射中自发发光的变化反映了叶片活性氧含量的变化; 叶片延迟发光中I0的变化反映了细胞总体代谢的变化，延迟发光中的τ值和β值的变化反映了叶片细胞对H2O2胁迫的适应和损伤过程.