1 中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室, 长春130022
2 中国科学院长春物理研究所, 长春 130021
描述了用高功率脉冲激光打靶产生的等离子体作为软Ｘ射线源而进行的接近式软Ｘ射线光刻研究。采用负性辐射线光刻胶聚氯甲基苯乙烯(PCMS)，得到了一些新的实验结果。
软X射线 激光等离子体 光刻术 光刻胶
本文提出的光学公差优化模型可迅速地计算出结果,而不必象通常那样进行反复调整试算.目标函数是光学系统的最低制造成本.从零件加工成本与公差关系的现有统计数据拟合得到普遍表达式用于本模型.约束条件是表征像质的MTF和畸变.最后给出例子,含两个变量,用网格法解优化值.
光学仪器的总体设计是正在形成的一门课题。本文提出这方面的几个根本性问题:(1)运用研究;(2)指标分析;(3)总体参数确定;(4)各分系统任务的平衡和指标分配。在光学仪器中,光学、机械、电学等各个环节在信息的传递和变换过程中的规律具有共同性,可以用共同的数学方式来处理。采用系统工程和信息论的概念讨论这些带普遍性的问题,有助于本课题的深入。本文还探讨了为将来用计算机进行总体设计所应准备的条件:基础实验数据和数学模型问题。
