作者单位
摘要
1 浙江师范大学信息光学研究所, 金华 321004
2 四川大学化学系, 成都 610064
3 四川大学信息光研究所, 成都 610064
在有关明胶材料吸水机理的基础上,结合明胶全息图退化的有关实验结果,提出重铬酸盐明胶全息图(以下简称为明胶全息图)的吸水退化模型。并对明胶全息图稳定性的实验结果从机理上进行解释。结果表明,这一模型对现有的实验结果能给出满意的解释,因此它对进一步提高明胶全息图稳定性的工作具有一定的理论指导意义。
明胶 重铬酸盐明胶(DCG) 明胶全息图 全息图的稳定性 
光学学报
1998, 18(3): 339
作者单位
摘要
1 深圳大学应用物理系,深圳 518060
2 四川大学信息光学研究中心,成都 610064
根据标量衍射理论,提出了4阶二元光学元件制作误差对衍射效率影响的解析表达式,对此解析公式展开了讨论,并与计算机模拟结果进行了比较,两者吻合得很好,且与实验结果基本符合。
二元光学 制作误差 衍射效率 解析分析 
中国激光
1998, 25(5): 415
作者单位
摘要
四川大学信息光学研究中心,成都 610064
用一种新型卤化银材料制作卤化银明胶全息图。研究了R-10漂白液在不同B液成分及不同浓度时对其衍射效率的影响。对于空间频率为1000 lines/mm的明胶全息图,在低噪声水平下得到81%的高衍射效率,并对实验现象进行了讨论。
衍射效率 卤化银明胶 漂白 
中国激光
1998, 25(2): 187
作者单位
摘要
1 浙江师范大学信息光学研究所, 浙江 金华 321004
2 四川大学信息光学研究所, 成都 610064
参照Naik对明胶全息图环境稳定性的考察工作,对双敏感中心红敏明胶材料(DC-MBD-CG)中所记录的全息图的环境稳定性进行了实验考察,结果表明,用DC-MBDCG记录的全息图比普通重铬酸明胶(DCG)全息图有高的多的环境稳定性。本文还对实验结果的机理进行了讨论,并给出了一种明胶全息图抗水涂层制备新工艺。
重铬酸盐明胶 亚甲基兰敏化的重铬酸盐明胶 双敏感中心红敏明胶体系 全息图的环境稳定性 
光学学报
1997, 17(9): 1216
作者单位
摘要
1 浙江师范大学信息光学研究所, 金华 321004
2 四川大学信息光学研究所, 成都 610064
提出一种制作连续沟形微光学元件的新方法。用移动物面上二元图案的方法来获得连续灰度的记录,再用卤化银明胶处理技术,把灰度银像转化成明胶硬度潜像,最后采用酶蚀显影工艺把潜像显现为连续沟形的浮雕结构。文中给出了原理分析和实验验证,初步结果令人满意。
微光学元件 光刻术 卤化银明胶 蛋白酶 
光学学报
1997, 17(2): 237
作者单位
摘要
1 浙江师范大学信息光学研究所, 金华 321004
2 四川大学信息光学研究所, 成都 610064
从预硬化重铬酸盐明胶光致抗酶蚀的成像机理出发,分析和推导了酶蚀成像特性曲线。并从实验上考察了几个主要因素对其线性动态范围的影响。其结果对于明胶酶蚀成像技术的应用,特别是对保真沟形微结构光学元件的制作具有指导意义。
重铬盐酸明胶 蛋白酶 浮雕光学元件 光刻术 
光学学报
1997, 17(2): 216
作者单位
摘要
四川大学信息光学研究所, 成都 610064
对普通红敏明胶感光度低的原因进行了分析。在此基础上提出了多敏感中心的新增感方法。文中对这种方法的增感机理从光化学角度进行了分析,并用红外光谱和对比实验进行了验证。最后还对这种增感方法的实际效果进行了考察。
红敏重铬酸盐明胶 感光度 亚甲基兰 
光学学报
1997, 17(1): 53
作者单位
摘要
1 浙江师范大学信息光学研究所, 金华 321004
2 四川大学信息光学研究所, 成都 610064
对亚甲基蓝敏化明胶(MBDCG)的感光化学过程进行了剖析,提出了MBDCG增感的疏堵模型;用疏堵模型对现有的增感方法进行了分析和归类.指出堵漏将是MBDCG增感的更有潜力的研究方向;提出明胶体系记录光信息的敏感中心的概念,并用疏堵模型对双敏感中心红敏明胶体系的增感原理进行分析、给出了增感效果的实验结果.
重铬酸盐明胶 亚甲基蓝敏化 接枝明胶 感光度 
中国激光
1997, 24(11): 1037
作者单位
摘要
四川大学信息光学研究所, 成都 610064
对用预置狭缝法制作彩虹全息图时的视角损失进行了分析,表明该方法能量利用率的提高是以视角损失为代价的。提出了一种在提高能量利用率的同时减小视角损失的方法。
彩虹全息图 视角 狭缝 
中国激光
1997, 24(6): 536
作者单位
摘要
1 浙江师范大学信息光学研究所, 金华 321004
2 四川大学信息光学研究所, 成都 610064
在分析未硬化重铬酸盐明胶水洗显影工艺沟形保真能力差的原因的基础上,提出了用预硬化明胶来制作高保真沟形微光学元件的酶蚀显影技术。并实验验证了这种技术的可行性。初步结果令人满意。
微光学 连续沟形 线性动态范围  
中国激光
1997, 24(4): 302

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