为解决磁流变抛光中回转对称非球面工件的高效率精确自定位问题, 提出了基于迭代最近点的改进两级定位方法。根据磁流变抛光特性和恒浸深控制要求, 确定了磁流变抛光工件非调平自定位原理。针对经典迭代最近点算法应用于回转对称非球面工件定位存在解不唯一及计算效率低的问题, 构建初始迭代矩阵实现了位姿唯一的指定性匹配, 并提出了空间垂直映射方法, 减小匹配点云的规模, 提高了计算效率。以此为基础, 提出了改进后的两级迭代最近点精确定位方法。最后, 以Φ100 mm凹形抛物面熔石英工件为对象进行了抛光实验。实验结果表明: 改进两级精确定位方法满足磁流变抛光的定位要求, 定位精度在多次实验中均优于9 μm, 平均定位时间为7.3 min, 在保证定位精度的同时提高了工件的定位效率。

论述了单级功率因数校正(PFC)LED驱动电源的设计思想，分析了单级PFC恒压源AC/DC构建原理，给出了单级PFC恒压源产生相关问题的解决办法，重点设计了恒流源部分，给出了恒流驱动芯片BP2808工作原理和设计步骤，同时，设计了手动调光部分，运用自激多谐振荡器NE555产生固定频率且占空比为0.09%＜D＜99.91%可调的PWM脉冲波去调节LED灯串的亮度，研究结果表明，能够实现宽范围占空比可调的PWM脉冲波，并且在满足功率因数要求的同时实现了高效率和低成本，符合LED驱动电源发展的趋势和潮流。

基于微机电系统(MEMS)技术，提出了一种光栅与法布里珀罗(F-P)腔相结合的新型MEMS F-P滤波器结构，这种滤波器既能保证较宽的自由光谱范围又能够获得较窄的半峰全宽。从实现机理、参数设计和选择对F-P滤波器的结构进行了深入分析，并着重对微桥桥面的机电性能进行了仿真计算。通过选择不同的微桥桥面厚度（0.5，0.6，0.7，0.8，0.9，1 μm），比较微桥在静电力作用下的平整度，发现当微桥表面厚度为1 μm时，得到了一个较优结果，在5 V电压下，上反射镜的倾斜位移ΔL为9.11 nm，最大腔长变化量为242 nm，这样能保持前后腔面反射光的平行要求，从而保证滤波器的滤波效率和对选择光的利用率。该滤波器能够解决传统微型滤波器自由光谱范围与半峰全宽相互限制的矛盾，提高微型滤波器的性能。

介绍了电源驱动电路在峰值电流控制模式下的工作原理，分析了占空比D>50%时驱动电路产生振荡和不稳定的原因，从理论上论述了电感电流的斜率，占空比与系统稳定性之间的关系，运用斜坡补偿的方法实现电源驱动电路在峰值电流控制模式下的稳定，给出了斜坡补偿的基本原理，设计步骤以及补偿电路，最后给出以UC3842为控制芯片的反激式变化器斜坡补偿电路设计实例。仿真与实验结果表明，斜坡补偿电路能够实现峰值电流控制开关电源在占空比D>50%时稳定工作，保证了系统的稳定性和抗干扰能力。

利用具有“双层膜结构”的管式电热膜加热元件, 应用 fluent软件, 模拟了不同曲率的抛物面反射罩对温度场分布的影响, 设计出了管式电热膜辐照装置。对其光谱特性、温度场分布进行测试以及节能效果对比实验表明, 本装置具有高温高辐射、升降温快、高效节能的特点, 可广泛应用在纺织印染业、电热器具、漆膜固化、热处理、红外理疗等领域。

基于微机电系统(MEMS)技术微加工工艺，提出了一种新型分立倾斜式变形镜(DM)设计，并加工制作了3×4变形镜阵列。该结构每个镜面单元对应一个驱动器，实现了连续面形的分立驱动，并且可有效释放工艺过程中产生的残余应力，从而降低镜面的翘曲。基于弹性理论对该变形镜的电压位移关系以及谐振频率进行了数值计算，并利用有限元软件对其进行了仿真，同时采用光学轮廓仪对样品进行了测试。实验结果表明，所制作的变形镜阵列可实现平移和倾斜运动，在3.75 V电压下可达到0.76 μm的行程，与理论分析和模拟仿真结果一致。与传统分立倾斜式变形镜相比，该新型分立倾斜式变形镜具有较低的驱动电压、较少的驱动器数量，适用于集成度高且与集成电路（IC）单片集成的变形镜设计。