作者单位
摘要
1 合肥工业大学 微电子学院, 合肥 230009
2 昆山睿翔讯通通信技术有限公司, 江苏 昆山 215300
提出了一种稳定性高、瞬态特性良好、无片外电容的低压差线性稳压器(LDO)。采用推挽式微分器检测负载瞬态变化引起的输出电压变化, 加大对功率管栅极寄生电容的充放电电流, 增强系统的瞬态响应能力; 在误差放大器后接入缓冲级, 将功率管栅极极点推向高频, 并采用密勒电容进行频率补偿, 使系统在全负载范围内稳定。基于TSMC 65 nm CMOS工艺进行流片, 核心电路面积为0035 mm2。测试结果表明, 最低供电电压为11 V时, 压降仅为100 mV, 负载电流1 μs内在1 mA和150 mA之间跳变时, LDO的最大输出过冲电压与下冲电压分别为200 mV和180 mV。
低压差线性稳压器 无片外电容 频率补偿 瞬态增强 low dropout regulator (LDO) capacitor-less frequency compensation transient enhancement 
微电子学
2023, 53(4): 608
作者单位
摘要
中国建筑材料科学研究总院有限公司,北京 100024
低热硅酸盐水泥具有高温下强度稳定增长的特性,本文以硅酸盐水泥和低热硅酸盐水泥互为对比,研究了在水泥砂浆成型之后直接进行热养护(50~80 ℃)和标准养护1 d后再进行热养护两种情况下的强度发展和水泥浆体的物相组成、孔隙发展、微观形貌特征。结果表明:高温条件下水泥强度损伤行为源于水化后期的微结构劣化,但这一行为与水化初期受热密切相关,低热硅酸盐水泥在高温下较低的水化速率使其水化产物更均匀、密实,浆体的孔结构不随温度的升高以及受热方式的改变出现明显劣化,因此其强度在高温下仍能保持稳定增长;硅酸盐水泥后期由高温引发的钙矾石分解并没有直接导致强度倒缩,但水化初期过高的水化速率使水泥浆体出现更多的孔洞和缺陷,加速了后期由高温引起的单硫型水化硫铝酸钙(AFm)、Ca(OH)2析出与生长,且诱发浆体孔隙率增大。
低热硅酸盐水泥 养护温度 水化产物 孔结构 微观形貌 low-heat Portland cement curing temperature hydration product pore structure micromorphology 
硅酸盐通报
2023, 42(9): 3100
作者单位
摘要
中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,四川绵阳621900
磁流变抛光是实现锥镜低表面损伤、面形误差高效抑制的重要工艺,然而锥面磁流变抛光去除函数畸变严重、畸变规律复杂,而现有方法难以直接有效建立其去除函数模型,导致面形收敛效率低下。本文分析了锥面曲率效应对磁流变抛光去除函数畸变的影响机制,研究去除函数的基准化特征参数关于平均曲率的解析规律,建立了由平面到锥面的磁流变抛光去除函数演绎方法。该方法将锥面去除函数的长宽、体去除率、峰去除率演变规律综合纳入到演绎之中,更全面地反映了锥面曲率效应下的磁流变抛光去除函数的畸变特性,同时避免了理化特性参数测量以及复杂方程和非线性问题的求解,为实际工况下锥面去除函数演绎提供一种有效、低成本方法。重复性采斑实验结果显示锥面去除函数特征参数的演绎误差为3.20%~12.02%,证明了该演绎方法具有较强的适用性。
锥面镜 磁流变抛光 去除函数演绎方法 特征参数 平均曲率 conical mirror magnetorheological finishing removal function deduction scheme characteristic parameters mean curvature 
光学 精密工程
2023, 31(16): 2383
作者单位
摘要
1 遵义师范学院 工学院,贵州 遵义 563006
2 中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所,四川 绵阳 621900
3 中国工程物理研究院 超精密加工技术重点实验室,成都 610200
针对抛光粉沉降特性数值计算这一超大规模非线性问题,基于Kahan线性化解决了超大规模流固耦合计算问题。研究了以羟基铁粉和硅油为主要成分组合而成的抛光粉多相流在梯度磁场下抛光区域的沉降特性。以质量分数70%、粒径5 µm的羟基铁粉和粘度为0.973 Pa·s的硅油组合而成的抛光粉为研究对象,实现了不同的抛光轮转速、不同嵌入深度以及不同羰基铁粉质量分数情况下的沉降规律分析。结果发现:磁流变抛光区域的抛光粉会随着抛光轮转速的增大而增多;当到达出口时,抛光粉的分布趋于稳定状态;抛光粉会随着嵌入深度的增加而增多并存在饱和区;羟基铁粉的质量分数以非线性的方式影响沉降能力。
Kahan方法 磁流变抛光 多相流 梯度磁场 沉降规律 Kahan method magnetorheological polishing multiphase flow gradient magnetic field sedimentation law 
强激光与粒子束
2022, 34(8): 082002
杨航 1,*任福靖 1张云飞 2黄文 2[ ... ]贾阳 3
作者单位
摘要
1 遵义师范学院 工学院, 贵州 遵义 563006
2 中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所, 四川 绵阳 621900
3 华中光电技术研究所 武汉光电国家实验室, 湖北 武汉 430073
平面光学元件的浸入深度、凸球面光学元件的浸入深度、凸球面光学元件的曲率半径不同会使磁流变抛光入口区域剪切力场发生变化。为了研究磁流变抛光入口区域剪切力场的形成机制, 建立磁流变抛光过程中必要的流体模型, 对入口区域的几何特征进行分析; 通过数值计算平面光学元件不同浸入深度、凸球面光学元件不同浸入深度、凸球面光学元件不同曲率半径的影响, 得到对应的剪切力分布。得出结论,当平面光学元件一定浸入深度逐渐增加时, 抛光区域入口处的剪切力逐渐增大; 当凸球面光学元件的一定浸入深度逐渐增加时, 抛光区域入口处的剪切力逐渐增大; 凸球面光学元件的曲率半径对剪切力无显著影响, 不同曲率半径下的剪切力分布大致相同。
流变抛光 剪切力场 几何特征 抛光区域 magnetorheological polishing shear force field geometric characteristics polishing area 
光学技术
2022, 48(2): 153
杨航 1陈英 1黄文 2韩明 1[ ... ]蒋蓉 1
作者单位
摘要
1 遵义师范学院 工学院,贵州 遵义 563006
2 中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所,四川 绵阳 621900
3 华中光电技术研究所 武汉光电国家实验室,湖北 武汉 430073
磁流变抛光能够高效去除光学元件表面的低频误差,但同时也引入了中频误差,而中频误差的存在对光学系统的性能造成了严重影响,必须对其进行有效控制。对常用的光栅轨迹和螺旋轨迹进行了研究,发现规则的抛光轨迹导致卷积过程与实际去除过程不一致,会引入对称的迭代误差,而迭代误差是中频误差恶化的重要因素。基于对光栅轨迹和螺旋轨迹的研究,提出了一种变距螺旋矩阵轨迹优化方法,以降低光学元件中频误差。该轨迹通过打乱螺旋矩阵轨迹的螺距保留了光栅轨迹和螺旋轨迹简单易行的优点,同时也改变了轨迹线间的随机性。通过对加工前后的面形进行功率谱分析,验证了该轨迹能够有效降低其表面的中频误差,较光栅线和螺旋线中频收敛效率综合提高了26.59%。
磁流变抛光 中频误差 功率谱密度 螺旋矩阵轨迹 轨迹优化 magnetorheological polishing intermediate frequency error power spectral density spiral matrix trajectory trajectory optimization 
红外与激光工程
2022, 51(3): 20210443
作者单位
摘要
1 遵义师范学院 工学院,贵州 遵义,563006
2 中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所,四川 绵阳,621900
磁流变抛光在其实际工作过程中,抛光区域几何特征的不同将会对流场创成的关键参数产生很大的影响。针对此问题建立三维模型与实验仿真展开研究。在研究抛光区域几何特征与流场创成关键参数的关系时,先改变抛光区域形状,观察其对流场创成中剪切应力、压力产生的影响;再控制抛光区域的形状相同时,通过改变抛光区域尺寸大小,观察对流场创成中剪切应力、压力产生的影响。结果表明:当抛光区域形状不同时,抛光区域为凹面时剪切应力最大,抛光区域为凸面时剪切应力最小。当抛光区域形状为凸面时,抛光区域两边的剪切应力随着抛光区域曲率大小增大而增大;当抛光区域形状为凹面,抛光区域两边的剪切应力随着抛光区域曲率大小增大而减小。当抛光区域形状不同时,抛光区域为凹面时压力最大,抛光区域为凸面时压力最小。当抛光区域形状为凸面时,抛光区域处的压力随着抛光区域曲率增大而增大;当抛光区域形状为凹面时,抛光区域处的压力随着抛光区域曲率增大而减小。
磁流变抛光 几何特征 剪切应力 抛光压力 超精密表面 magnetorheological polishing geometric characteristics shear stress polishing pressure ultra-precision surface 
强激光与粒子束
2021, 33(10): 101003
作者单位
摘要
1 中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所,四川绵阳62900
2 西南科技大学 制造过程测试技术教育部重点实验室,四川绵阳61010
为了研究磁流变抛光后元件表面“彗尾状缺陷”的生成和演变机理,本文以石英玻璃为样品,分析了磁流变抛光时抛光液中抛光颗粒浓度与水分含量对彗尾状缺陷的影响。研究表明,彗尾状缺陷的生成与元件表面存在的原始缺陷相关,抛光颗粒在缺陷处的堆积是造成原始缺陷转变成彗尾状缺陷的主要原因。随着抛光颗粒浓度的增加,抛光颗粒在原始缺陷处的堆积明显,生成的彗尾状缺陷数量增加;然而随着水分含量的增加,抛光液的流动性增强,抛光颗粒在缺陷处堆积效应减弱,彗尾状缺陷出现的数量降低。在磁流变抛光过程中,原始凹坑缺陷首先演变成彗尾状缺陷,彗尾状缺陷的头部凹坑深度相对于原始缺陷表现出先增加再降低的趋势;而凹坑的边缘角度随抛光的进行单调增加,直到缺陷被完全去除。本文的研究结果为磁流变抛光中抑制元件表面彗尾状缺陷的生成奠定了理论基础,有助于后期研发控制彗尾状缺陷的抛光液和工艺优化方法。
光学加工 磁流变抛光 彗尾缺陷 堆积效应 石英玻璃 optical fabrication Magnetorheological Finishing(MRF) comet-tail defects accumulative effect fused silica glass 
光学 精密工程
2021, 29(4): 740
作者单位
摘要
中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所, 四川绵阳621900
传统的磁流变抛光工艺采用抛光缎带的固定位置对工件进行法向加工,由于机床转轴的行程限制,工件陡度较高区域不可达,当前基于等效磁场原理的变切触点抛光方法存在着等效磁场实现成本高,没有充分发挥机械轴与虚拟轴相结合的抛光能力等问题。本文针对这些问题提出了一种用于加工高陡度曲面元件的方法,分析了保证去除函数稳定的磁场特点,通过磁场测量实验验证了磁场的稳定范围,通过采斑实验确定了去除函数稳定的虚拟轴范围为±12°,提出了将虚拟轴与机械轴复合使用的加工方法,并基于刚体变换实现了该加工方法下的坐标解算。最后,通过增加倾角的球面件抛光实验,将球面元件95%口径的PV值收敛为0.096λ,RMS值收敛为0.012λ,实验结果表明虚拟轴和机械轴复合抛光方法具有针对高陡度曲面的修形能力。
磁流变抛光 变切触点 机械轴 虚拟轴 高陡度曲面 magnetorheological finishing variable normal-contact virtual axis mechanical axis high-gradient surface 
光学 精密工程
2021, 29(2): 286
作者单位
摘要
中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所, 四川 绵阳 621900
为解决磁流变抛光中回转对称非球面工件的高效率精确自定位问题, 提出了基于迭代最近点的改进两级定位方法。根据磁流变抛光特性和恒浸深控制要求, 确定了磁流变抛光工件非调平自定位原理。针对经典迭代最近点算法应用于回转对称非球面工件定位存在解不唯一及计算效率低的问题, 构建初始迭代矩阵实现了位姿唯一的指定性匹配, 并提出了空间垂直映射方法, 减小匹配点云的规模, 提高了计算效率。以此为基础, 提出了改进后的两级迭代最近点精确定位方法。最后, 以Φ100 mm凹形抛物面熔石英工件为对象进行了抛光实验。实验结果表明: 改进两级精确定位方法满足磁流变抛光的定位要求, 定位精度在多次实验中均优于9 μm, 平均定位时间为7.3 min, 在保证定位精度的同时提高了工件的定位效率。
磁流变抛光 回转对称非球面 迭代最近点 指定性匹配 垂直映射 magnetorheological polishing rotary symmetrical aspheric workpiece Iterative Closest Point(ICP) specified match vertical mapping 
光学 精密工程
2020, 28(3): 610

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