基于激光离子源的飞行时间质谱法作为一门新兴的成像方法, 已经被广泛应用于材料、 地质、 环境、 药物和生命科学领域中。 但受限于光学衍射极限、 聚焦透镜的焦距和数值孔径等因素, 使其难以实现亚微米尺寸的高空间分辨率成像。 近场技术的引入成功地解决了光学衍射极限的限制, 将近场技术与激光电离技术相结合, 可以实现对固体样品表面纳米级弹坑的剥蚀。 此外, 传统的质谱成像技术常常假设样品表面是平整的, 忽略其表面形貌的高低起伏, 但这往往会导致信号强度不稳定和成像假象。 为此, 不仅需要获得样品中的化学组成与空间分布, 还需同时获得样品表面的形貌信息, 才能实现多功能的原位表征。 在自行研制的激光解吸/电离飞行时间质谱的基础上, 采用近场纳米有孔针尖离子源代替传统的远场激光聚焦, 以532 nm波长激光为第一束解析激光, 355 nm波长激光为后电离激光, 音叉式原子力显微镜控制系统针尖与样品之间的距离维持在近场范围内, 对酞菁铜镀层样品表面进行了弹坑剥蚀实验, 获得了直径为550～850 nm的弹坑点阵; 并对7.5 μm×7.5 μm的标准酞菁铜网格样品进行了铜离子亚微米级的高分辨率成像; 此外, 纳米有孔针尖离子源作为原子力显微镜的一种变体, 还可同时获得成像区域的表面形貌信息, 这一结合优势大大拓展了质谱技术在微纳尺度下的原位表征能力。

利用二波耦合(2BC)实验研究了掺杂C60垂直排列的向列相液晶(5CB)样品中形成光折变全息光栅的动态衍射特性。利用厚度为20 μm的样品中记录的光折变全息光栅(光栅间距Λ≈24 μm)获得了高达40%的一阶衍射效率，且衍射强度不对称分布。根据取向光折变效应体机制和表面电荷调制机制对此现象给出了解释，认为液晶中电场的增强是表面电荷调制和Carr-Helfrich效应共同作用的结果。薄光折变全息光栅的高衍射效率来源于液晶中非正弦调制的空间电荷场。数值模拟结果与实验测量结果一致,证实了所提出物理机制的正确性。