1 天津工业大学 电子与信息工程学院, 天津 300387
2 天津市光电检测技术与系统重点实验室, 天津 300387
3 中国科学院 半导体研究所, 北京 100083
为了制备大面积周期性微纳米结构以提高LED的发光效率, 建立了劳厄德(Lloyd)干涉光刻系统。简单分析了该干涉光刻系统的工作原理, 并介绍了利用干涉曝光工艺制备一维光栅、二维点阵、孔阵列等纳米结构图形的具体实验过程。最后对纳米图形进行结构转移, 制备出了金属纳米结构。实验结果表明: 利用劳厄德干涉光刻系统, 可以在20 mm×20 mm大小的ITO衬底上稳定制备出周期为450 nm的均匀光栅或二维点阵列图形结构, 它们的占空比也是可以调节变化的。
干涉光刻 周期结构 发光二极管 光提取 interference lithography periodic structure light emitting diode light extraction
