得益于高功率尾纤输出半导体激光器和非保偏光纤及器件的发展，随机偏振光纤激光在过去十年内输出功率得到了极大的提升，但国内尚无高功率非保偏大模场光纤放大器偏振控制的实验报道。

光束拼接激光相干合成中，拼接占空比不高导致合成光束能量集中度不够理想，为了解决这个问题，提出了激光场相干叠加光束合成技术路线，设计了基于半反半透合束镜的多级激光场相干叠加光束合成方案。研究了子光束之间的光强差和波面误差对相干合成的影响，结果表明，激光场相干叠加光束合成中，对参与合成子光束的光强差、相位差的容差均不难满足：仅考虑单一因素时，子束光强相差三倍时合成效率仍可达90%，相位误差小于π/5时，合成效率可达到90.5%。搭建了基于半透半反合束镜的两束激光场相干叠加光束合成实验装置，实验验证了激光场相干叠加光束合成技术的可行性，在闭环情况下得到了稳定的合成光束输出，合成效率可达95%以上。

针对长焦距测量中被测透镜像差引入的焦距测量误差提出了一种校正方法。传统长焦距测量中使用高斯公式来计算被测透镜的焦距值，未考虑被测透镜像差引入的误差。在采用发散光作为测量光束的大口径光学元件焦距测量中，该误差成为了影响测量精度的重要因素。详细分析了基于发散光和泰伯效应的长焦距测量法，利用数值方法获得了误差修正值，并与Zemax的仿真结果进行了对比。利用Visual C++编程，实现了测量结果的自动校正功能。对名义焦距值为13500 mm和31251 mm透镜的测量数据分别进行校正后，其相对于名义焦距值的测量精度分别优于0.007%和0.022%。将校正后的测量精度与干涉仪法的测量精度进行了对比，结果充分说明了该方法是可靠和有效的。

分析了激光相干合成装置及其光路调整要求, 提出利用剪切干涉检测合成光路中子光束一致性的方法。分析剪切干涉原理, 建立了剪切板干涉物理模型, 以相干合成中两路矩形光束拼接组束为例, 数值模拟并研究了子光束的整体倾斜、离焦所对应的剪切干涉条纹, 得到了条纹图像与子光束光轴误差、离焦误差之间的对应关系, 用于相干合成光路中子光束光轴和发散角误差的判断。光轴倾斜大于5 μrad时, 可以直接观察互干涉和自干涉条纹变化, 发散角在大于10 μrad时, 干涉条纹变化明显。此外, 剪切干涉的自干涉条纹平移可用来检测子光束间的活塞误差, 可作为光束拼接相干合成中闭环相位检测和控制的手段。

用于抽运钛宝石的电光调Q Nd:YAG激光器会出现自锁模调制，导致峰值功率不稳从而损伤钛宝石晶体，为了抑制这种自锁模调制，分析了产生该现象的原因，研究了谐振腔内插入法布里珀罗(F-P)标准具的技术方案。实验采用单个厚度20 mm，膜层反射率60%的标准具，有效抑制了该Nd:YAG激光器的自锁模调制，实现了脉宽约70 ns，脉冲能量约600 mJ的1064 nm激光的稳定输出，既避免了引入较大的插入损耗，又防止了对F-P标准具膜层的损伤。分析认为单个厚度合适、膜层反射率不太高的标准具可有效抑制Nd:YAG激光器自锁模现象的原因在于:标准具一个透射峰半峰全宽(FWHM)内理论上虽有约5个纵模，但偏离透射峰中心的纵模损耗较大，使得单个透射峰内实际起振的纵模可能只有1个；激光器的增益线宽内虽存在标准具的多个透射峰，但起振纵模因不相邻避免了形成相位锁定。

应用AOTF-近红外光谱仪测定了443个不同地区、不同等级烟草样品的近红外光谱,用Unscramble()定量分析软件将光谱与对应的化学成分值相关联,建立了烟草中总糖、还原糖、总烟碱和钾的回归模型.总糖、还原糖、总烟碱和钾含量近红外光谱分析模型的决定系数R2分别为0.9840、0.9866、0.9884和0.9201.用这些模型对未知样品进行了预测,总糖、还原糖、总烟碱和钾模型预测的平均相对标准偏差分别为2.68%、2.88%、4.18%和8.38%.