复旦大学 微电子学系ASIC与系统国家重点实验室，上海200433
原子层淀积(ALD)是一种先进的纳米级薄膜生长技术，在微电子和光电子领域有着广泛的应用前景，尤其在提高太阳电池的光电转换效率方面正发挥越来越大的作用，很可能成为下一代太阳电池工艺中的重要方法。文章综述了近年来ALD技术在太阳电池领域的应用研究进展，详细介绍了ALD技术应用在不同类型太阳电池的最新研究成果和存在的问题，并对其发展趋势进行了展望。
太阳电池 原子层淀积 薄膜生长 solar cells atomic layer deposition thin film growth
