浙江大学超大规模集成电路设计研究所, 浙江 杭州 310027
充分利用光刻系统中光源的部分相干特性和一维图形的特性，提出了针对一维版图的快速平面光刻仿真算法。该方法由一维基元图形查表法、最小查找表及其边缘延伸和无切割的大面积版图仿真组成。仿真结果表明，在保证极高准确性的基础上，相比于传统的快速仿真方法，该方法将查找表的建立时间缩短了95%以上、基本图形的仿真速度提高了48%左右、大面积版图的仿真速度提高了70%以上。
成像系统 光刻 光刻仿真 一维版图 光学学报
2013, 33(11): 1111001
