超高速激光熔覆是新兴的表面涂层技术，通过粉末和激光的最佳耦合实现熔覆效率的大幅提升，相比传统激光熔覆涂层可以获得更优质的表面质量，且对基材损伤更小。通过分析超高速激光熔覆的原理及技术优势，并与传统激光熔覆技术特点进行对比，总结了激光功率、扫描速率、送粉速度以及搭接率对熔覆层成形的影响，详细介绍了超高速激光熔覆涂层的硬度、耐磨、耐蚀等关键性能的研究现状，并且列举了国内外对超高速激光熔覆技术在工业应用现状。最后，基于目前的研究进展，指出目前对于超高速激光熔覆涂层和基体界面结合状态及涂层构件力学方面处于研究空白，并对该技术的发展提出展望。以期为超高速激光熔覆技术的广泛应用提供理论支持。

采用射频磁控溅射方法制备了Er/Yb共掺ZnO薄膜，研究了退火处理对高浓度Er/Yb共掺ZnO薄膜的结构演化和光致发光(PL)特性的影响。X射线衍射分析结果表明：Er/Yb掺杂导致ZnO薄膜的晶粒细化及择优取向性消失，ZnO晶粒随退火温度的增加而逐渐长大。900 ℃退火时，出现Er3+、Yb3+偏析，退火温度高于1000 ℃时，薄膜与基体间发生了界面反应，1200 ℃时，ZnO完全转变为Zn2SiO4相。光致发光测量结果表明：高于900 ℃退火处理后，Er/Yb共掺ZnO薄膜在1540 nm附近具有明显的光致发光，发光强度在退火温度为1050 ℃时达到最大值；光致发光光谱呈现典型的晶体基质中Er3+离子发光光谱所具有的明锐多峰结构特征。此外，探讨了薄膜结构演化及其对光致发光光谱的影响。

采用反应射频磁控溅射技术，通过调整溅射靶面上金属Er和Yb的面积比例制备出了不同Yb含量的Er/Yb共掺Al2O3薄膜，重点探讨了薄膜制备过程中Er、Yb成分比例控制的可靠性及Yb的掺杂浓度对Er/Yb共掺Al2O3薄膜室温光致荧光谱强度及峰型的影响。利用卢瑟福背散射谱(RBS)和电子能谱(EDX)对薄膜成分进行的分析表明