为了使训练更有针对性和计划性, 训练模拟器的评估功能应做到评估内容覆盖全面、贴合训练大纲、综合考虑训练过程中的各种因素、评估方式多样灵活等。根据训练模拟器评估功能需求以及已有研制经验, 分别讨论了理论考试、操作训练评分、复杂训练课题评分以及辅助评估四种评分方式的设计思路, 并提出了一种训练评分的处理流程。数据采集、专家系统和综合模糊评价法技术的应用在训练模拟器评估系统设计中起到很关键的作用。除了对以上关键技术应用的研究, 在该课题上的研究应该重点放在提高智能化和灵活性上, 以适应未来的复杂大型模拟器或者多模拟器的联网训练。

作用距离是紫外成像探测系统的重要综合性能指标之一。依据AlGaN 日盲紫外焦平面成像系统的成像原理，考虑到影响紫外系统作用距离的各个因素,分别对点目标和面目标的作用距离进行了理论推导。受到日盲紫外成像系统作用距离影响的因素主要包括目标辐射特性、大气传输衰减、光学系统、探测器、电子处理系统等。从目标的辐射能量传递出发，结合信噪比与虚警概率、探测概率的关系，推导出了紫外成像系统作用距离的理论公式，并结合系统参数进行实例计算。分析得出提高系统有效通光口径、光学透射率、滤波降噪及增加积分时间等方法可用于增加紫外成像系统的作用距离。

针对投影光刻物镜苛刻的像质要求，将计算机辅助装调(CAA)技术引入投影光刻物镜的装调过程中，建立了相应的数学模型。选取33个视场Fringe Zernike多项式的4~37项，以及畸变作为校正对象，并选取19个结构参量作为补偿器。通过将CODE V的宏功能和Matlab结合，采集灵敏度矩阵和像质数据。提出用奇异值分解求加权最小二乘解的方法计算补偿量，通过权重因子实现对不同视场上不同Zernike项系数或畸变的改进。将补偿后光刻物镜的性能和理想光刻物镜对比，发现相比于设计镜头，装调后镜头的平均波前均方根(RMS)大约差0.004λ，平均畸变大约差1 nm，该方法可以将系统波像差和畸变恢复到接近设计水平。

为了分析光学材料折射率非均匀性对极小像差光学系统成像质量的影响，从而指导系统的进一步优化设计，提出一种三维仿真和光线追迹方法。该方法是在Zemax中通过自定义的程序，构建材料折射率均匀性的三维分布，设置光线追迹的步长，并控制整个光线追迹的过程，以提高仿真分析的精度。利用所提出的三维仿真和光线追迹方法，对一个数值孔径为0.7、工作波长为632.8 nm、波像差均方根(RMS)值为1.5 nm的小像差光学系统进行了仿真分析。结果表明，相比于传统的二维处理方法，提出的方法仿真精度有较大提高。

采用Au作为感应读出式光子计数成像探测器的光阴极，在分辨率测试板上蒸镀了薄膜厚度为15 nm的Au作为透射式阴极。实验测试了加Au阴极后微通道板(MCP)的增益性能，探测器的分辨率和计数率等成像性能，与未加Au阴极时相应的系统性能做了对比。结果表明, 加Au阴极后MCP的脉冲高度分布呈准高斯型，随着MCP工作电压的提高，脉冲高度分布曲线的峰值向高增益方向移动，曲线的半峰全宽(FWHM)逐渐变宽；Au阴极有效提高了光子计数成像探测器的探测效率和信噪比；分辨率测试结果表明加Au阴极后探测器的空间分辨率优于75 μm，随着计数率的提高分辨率将会下降，在保证系统分辨率优于150 μm时计数率可达到13.5 kHz。

Compared with the traditional image intensifier with phosphor screen readout, the photon-counting imaging detector with charge induction readout is more beneficial in several aspects (e.g., good imaging properties and time resolution) to astronomy, reconnaissance, bioluminescence, and materials research. However, the annealing temperature during the tube-making process can affect the properties of the Ge film, and consequently impair the performance of the detector. Therefore, the influence of annealing temperature on Ge film and on the detector is studied in order to determine the crucial parameters. The Ge films are prepared on ceramic and quartz glass by the use of an electron gun. They are analyzed by scanning electron microscope (SEM), high-resistance meter, and X-ray diffraction (XRD). The results show that the optimum substrate and annealing temperature are ceramic plate and 250 ℃, respectively.

在MgF2基片上,采用电子束蒸发镀膜法制备了掺锡氧化铟(ITO)导电基底,研究了充氧及退火对ITO薄膜电阻及紫外透射比的影响。并与传统的金属导电基底Au和Cr进行了性能比较。用光学显微镜、四探针测试仪、高阻计、X射线衍射仪(XRD)和分光光度计分别测试了薄膜的表面形貌、方块电阻、形态结构和190-800 nm波段范围内薄膜的透射比曲线,得到方块电阻为107 Ω左右时薄膜在200-400 nm波段内透射比的变化范围。实验结果表明,厚度相同时,充氧会增大ITO薄膜电阻;退火则会降低薄膜电阻并提高紫外透射比,薄膜结构由非晶态变为多晶态。方块电阻同为107 Ω时,在200-400 nm波段充氧退火后ITO薄膜的平均透射比比Au,Cr的高10%。

针对基于双近贴式X射线像增强器的射线成像系统，提出了该系统的三维噪音测试及分析方法.分析了各噪音因子的含义，用三维曲线描绘出空间域和时间域噪音的分布情况，结合数字图像处理技术，测量了双近贴式X射线像增强器成像系统在微焦斑射线源四种照射条件下的三维噪音，并对其结果进行分析.分析表明,其结果与双近贴式X射线像增强器成像系统实际性能相吻合.

分析了双近贴式X射线像增强器响应不一致性的产生机理，对每个像元建立了光电响应的数学模型.基于该模型，提出了一种改进的多点校正算法.该算法将对数曲线模型转化为线性响应模型，通过基于最小二乘法的两点拟合算法对图像数据进行校正.对比分析了校正前后图像的背景标准差及灰度分布曲线，实验结果验证了该方法的有效性.

利用电子束真空蒸镀方法制作了Ge薄膜,用作感应读出方式光子计数成像系统的电荷感应层,研究了石英玻璃衬底和陶瓷衬底上Ge薄膜的结构特征、表面形态以及各种工艺参数对薄膜电阻的影响。X射线衍射(XRD)测试表明,两种衬底上沉积的Ge薄膜均为立方相非晶态。场发射扫描电子显微镜(FESEM)图像表明石英玻璃衬底上的薄膜致密平整,陶瓷衬底上的薄膜比较粗糙,厚度较薄时,陶瓷晶界处薄膜不连续导致电阻较大。通过改变沉积速率、薄膜厚度及采用退火的方法可以控制薄膜电阻。对比了采用不同阻值电荷感应层时系统的性能,发现阻值对探测器的分辨率影响小,对计数率影响较大。