1 华南理工大学 材料科学与工程学院, 广州 510640
2 广东省新材料研究所 现代材料表面工程技术国家工程实验室, 广东省现代表面工程技术重点实验室, 广州 510651
低温沉积α-Al2O3薄膜是拓展其实际工程应用的关键。本研究以Al、α-Al2O3和Al + 15wt% α-Al2O3为靶材, 用射频磁控溅射在Si(100)基体上沉积氧化铝薄膜。用掠入射X射线衍射(GIXRD)、透射电子显微镜(TEM)、能谱仪(EDS)对所沉积薄膜的相结构和元素含量进行研究, 用纳米压痕技术测量薄膜硬度。结果表明, 在550 ℃的基体温度下, 反应射频磁控溅射Al+α-Al2O3靶可获得单相α-Al2O3薄膜。靶中的α-Al2O3溅射至基片表面能优先形成α-Al2O3晶核, 在550 ℃及以上的基体温度下可抑制γ相形核, 促进α-Al2O3晶核同质外延生长, 并最终形成单相α-Al2O3薄膜。
α-Al2O3 反应溅射 复合靶 低温沉积 纳米压痕 α-Al2O3 reactive sputtering composite target low-temperature deposition nano-indentation
1 华南理工大学机械工程学院,广州,510640
2 中国科学院金属研究所,沈阳,110015
将磺化还原蓝RSN、磺化还原艳紫2R以及磺化还原猩红HRR以不同比例混合并配成0.5%的溶液,然后旋转蒸发得到浓度为20%的溶致液晶,使其在载玻片上涂布成膜,经过稳定化处理后该种混合磺化还原染料偏振薄膜的偏振性能在可见光全波段范围得到了较一致的偏振效率,可以实现薄膜在可见光全波段的偏振需要.
混合磺化还原染料 偏振薄膜 偏振效率
