作者单位
摘要
中国工程物理研究院 流体物理研究所,四川 绵阳 621900
时间分辨X射线吸收精细结构谱技术需要产生高亮度、均匀、宽光谱的X射线源。单一靶材产生的M带辐射源亮度高,但均匀性较差,因此提出了一种使用多种金属材料制备的多层膜复合靶产生M带辐射的方案。针对Si的K边X射线吸收谱实验,根据前期单一靶材M带光谱实验数据理论计算了最优的材料比例,制备了Au、Yb、Dy三种材料组成的多层膜复合靶,并在神光II激光装置上开展了脉冲激光驱动的多层膜复合靶辐射光谱测量,实验结果和理论计算基本一致。相比单一靶材,多层膜复合靶产生的M带辐射源具有光谱宽、整体亮度均匀的优点,在时间分辨X射线吸收精细结构谱中具有较大的应用潜力。
光谱学 X射线吸收精细结构 多层膜 复合靶 M带辐射 spectroscopy X-ray absorption fine structure multilayer composite target M-band radiation 
强激光与粒子束
2023, 35(8): 081004
程奕天 1,2邱万奇 1,*周克崧 1,2刘仲武 1[ ... ]张辉 1
作者单位
摘要
1 华南理工大学 材料科学与工程学院, 广州 510640
2 广东省新材料研究所 现代材料表面工程技术国家工程实验室, 广东省现代表面工程技术重点实验室, 广州 510651
低温沉积α-Al2O3薄膜是拓展其实际工程应用的关键。本研究以Al、α-Al2O3和Al + 15wt% α-Al2O3为靶材, 用射频磁控溅射在Si(100)基体上沉积氧化铝薄膜。用掠入射X射线衍射(GIXRD)、透射电子显微镜(TEM)、能谱仪(EDS)对所沉积薄膜的相结构和元素含量进行研究, 用纳米压痕技术测量薄膜硬度。结果表明, 在550 ℃的基体温度下, 反应射频磁控溅射Al+α-Al2O3靶可获得单相α-Al2O3薄膜。靶中的α-Al2O3溅射至基片表面能优先形成α-Al2O3晶核, 在550 ℃及以上的基体温度下可抑制γ相形核, 促进α-Al2O3晶核同质外延生长, 并最终形成单相α-Al2O3薄膜。
α-Al2O3 反应溅射 复合靶 低温沉积 纳米压痕 α-Al2O3 reactive sputtering composite target low-temperature deposition nano-indentation 
无机材料学报
2019, 34(8): 862
作者单位
摘要
西北核技术研究所, 西安 710024
针对目前脉冲硬X射线源能谱硬、辐照面积小、辐射场电子份额高无法开展系统电磁脉冲效应实验研究的技术难题,提出了采用复合薄靶软化脉冲硬X射线能谱、降低电子份额的方法。采用MCNP程序数值模拟了电子和光子在不同材料中的输运规律,分析了复合靶结构和材料厚度对X射线能谱、电子份额的影响。以“闪光二号”加速器为电子束源,设计了复合薄靶、X射线窗。实验得到的X射线参数:平均能量121 keV;均匀性2∶1情况下,700 cm2平均剂量40 rad(Si),500 cm2平均剂量170 rad(Si);光子数与电子数的比值大于103,可以开展系统电磁脉冲效应初步实验研究。
轫致辐射 脉冲硬X射线 能谱 复合靶 系统电磁脉冲 bremsstrahlung pulsed hard X-ray energy spectrum composite converter system generated electromagnetic pulse 
强激光与粒子束
2013, 25(6): 1396

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