1 上海激光技术研究所, 上海 200233
2 西北师范大学化学系, 兰州 730070
本文首次用激光作激励光源,在P型硅片上成功地进行了光电化学成像沉积,得到层次清晰的图像。该沉积系统可望作为一种新的可擦除图像记录器。同时本文对该体系的液-固结特性进行了研究,对影响成像沉积质量的因素进行了讨论。
光电化学 成像记录器
本文通过理论计算和实验测量了CW CO2激光辐照下石英基片的表面温度分布及其上升过程,并用此结果分析了CW CO2激光热解W(CO)6在石英片上沉积大面积钨膜的实验.
激光 气相沉积 表面温度
1 上海市激光技术研究所, 上海 200233
2 上海科技大学物理系, 上海 201800
利用激光诱导化学镀技术,首次在硅片上沉积出金属镍。研究了沉积速率与各实验参量的关系,并对积沉斑的形状进行了分析和讨论。
激光 化学镀
本文报道用激光诱导表面化学反应沉积金属膜的一种新实验结果。用OWCO02激光诱导硅片表面的Ni2O3与硅片衬底反应沉积镍膜,一步形成Ni-SiO2-Si的准MOS结构。用多种表面分析方法对膜层的成份,性能进行测试分析,并讨论了膜的生长机制。
表面化学 准MOS结构
自适应光学讨论会由国际光学工程协会发起，定于1986年3月31日至4月4日在美国佛罗里达州的奥兰多举行。
