1 延边大学 理学院 物理系，吉林 延吉133002
2 吉林大学 超硬材料国家重点实验室，吉林 长春130012
利用微波等离子体化学气相沉积法，在Si(100)衬底上制备了碳纳米球薄膜。利用拉曼光谱和场发射扫描电子显微镜研究了薄膜的结构以及表面形貌，表明碳纳米球薄膜是由约2~3 μm长、100 nm宽的无定形碳纳米片相互缠绕、交织成球状而构成的。在高真空系统中测量了碳纳米球薄膜的场发射特性，结果表明，碳纳米球薄膜具有良好的场发射特性，阈值电场为3.1 V/μm，当电场增加到10 V/μm时，薄膜的场发射电流密度可达到60.7 mA/cm2。通过三区域电场模型合理地解释了碳纳米球薄膜在低电场、中间电场和高电场区域的场发射特性。
微波等离子体化学气相沉积 碳纳米球薄膜 场发射 microwave plasma chemical vapor deposition carbon nanometer ball films field emission
延边大学 理学院 物理系,吉林 延吉 133002
采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)技术,以CH4和H2为源气体,硅片为衬底制备了碳膜。利用拉曼光谱仪和扫描电子显微镜成功研究了基板偏压、沉积时间、CH4浓度等工艺参数的改变对碳膜絮状结构的影响。通过分析碳膜结构和形貌,得出纳米絮状碳膜的最佳工艺参数。通过电流密度-电场(J-E)曲线 和Fowler-Nordheim(F-N)曲线,研究了CH4浓度对纳米絮状碳膜的场发射特性的影响。随着CH4浓度的增加,碳膜的阈值电场逐渐降低,发射电流密度逐渐增加。
电子回旋共振化学气相沉积 纳米絮状碳膜 场发射特性 electron cyclotron resonance plasma chemical vapor carbon-film of nano-catkin field emission
1 延边大学理工学院物理系
2 吉林师范大学应用工程学院
3 吉林大学超硬材料国家重点实验室
4 吉林大学超硬材料国家重点实验室
利用磁控溅射方法制备了纳米TiO2 薄膜,通过Raman光谱和UV Vis光谱讨论了TiO2 薄膜的带宽随着厚度变化的规律。随着薄膜厚度的增加,TiO2 薄膜的带宽变窄,这是由于纳米薄膜的纳米效应所致
纳米TiO2薄膜 Raman光谱 UV-Vis光谱 带宽 Nanometer TiO2 thin films Raman spectra UV-Vis spectra Bandgap width
1 吉林大学超硬材料国家重点实验室,长春,130023
2 延边大学理工学院,延吉,133002
3 吉林大学超分子结构和谱学开放实验室,长春,130023
用射频磁控溅射方法制备出厚度大约15-225nrm的TiO2薄膜.Raman光谱测量显示,TiO2薄膜主要是金红石结构(含少量板钛矿相).紫外可见光吸收光谱表明,在纳米厚度(100nm)范围内,TiO2薄膜的带隙宽度随着薄膜厚度的变化而变化.室温下测量TiO2薄膜的电阻率发现,随着厚度的增加TiO2薄膜的电阻率先后在导体、半导体和绝缘体范围变化.
TiO2薄膜 结构 光谱 导电性 TiO2 thin films Structure Spectrum Cond
