1 四川大学原子分子物理研究所,四川,成都,610065
2 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
3 中国工程物理研究院
4 激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
采用空心阴极等离子化学气相沉积方法,以NH3/H2的混合气体及CH4气体为原料反应气体,成功地制备了非晶的CHN薄膜,研究了CHN薄膜的沉积速率与直流电压及反应气体流量的关系.同时用X射线光电子能谱(XPS)确定了不同条件下薄膜中N原子的百分比,用原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面粗糙度及表面形貌进行了测量和表征.结果表明:薄膜中N原子的百分比最大为12%,薄膜的表面结构光滑、致密,表面粗糙度小于1 nm.
CHN薄膜 空心阴极 化学气相沉积 沉积速率 X射线光电子能谱 CHN films Hollow cathode Chemical vapor deposition Deposition rate X-ray photoelectron spectra（XPS） 强激光与粒子束
2005, 17(11): 1689
