1 上海微电子装备有限公司, 上海 201203
2 上海微高精密机械工程有限公司, 上海 201203
提出了一种用于光刻装置的对准系统。该对准系统所用的标记包含多个相位子光栅。其中，标记±1级衍射光的光强信息用于产生粗对准信号。在粗对准信号上，通过峰值检测和信号拟合获得最大峰值点，该峰值点即为粗对准位置。同时，在另一光路中，精细子光栅的±1级衍射光的光强信息用于产生精对准信号。利用余弦或正弦曲线对该精对准信号进行拟合，得到一系列的波峰点。距离粗对准位置最近的波峰点即为精对准位置。当精细子光栅的周期足够小时，该对准系统可获得5 nm级的重复精度。
光刻机 对准系统 相位光栅 信号拟合 粗对准 精对准 lithography alignment system phase grating signal fitting coarse alignment fine alignment
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室，西安 710049
压印光刻中套刻需要粗、精两级对正．实验采用一对斜纹结构光栅作为对正标记．利用物镜组观察光栅标记图像的边界特征进行粗对正，其准确度在精对正信号的捕捉范围内；利用光电接收器件阵列组合接收光栅莫尔信号，在莫尔信号的线区进行精对正．由于线性区的斜率大，精对正过程中得到相应x，y方向的对正误差信号灵敏度高，利用高灵敏度对正误差信号作为控制系统的驱动信号，对承片台进行驱动定位，实现精对正．最终使X，Y方向上的重复对正准确度分别达到了±21 nm(±3σ)和±24 nm(±3σ)．
压印光刻 对正准确度 光栅 莫尔信号 粗对正 精对正 Imprint lithography Alignment accuracy Grating Moiré signal Coarse alignment Fine alignment
