李世光 1,2,3,*†郭磊 1,2,3,**†曾海峰 1,2,3戢逸云 1,2,3[ ... ]肖燕青 3
1 中国科学院大学集成电路学院，北京 100049
2 中国科学院微电子研究所成果转化部，北京 100029
3 江苏影速集成电路装备股份有限公司，江苏 徐州 221300
光刻技术中的聚焦控制对曝光质量有直接的影响。曝光过程中，为保证良率，曝光区域需要时刻处于焦深范围内。通过建立数学模型，探讨了光刻机系统总离焦量与产品良率的关系，而光刻机的总离焦量又是多种离焦误差共同作用的结果。研究了先进的双工件台光刻系统和应用于掩模板制造的数字微反射镜装置光刻系统的工作流程，分析了与聚焦控制密切相关的若干离焦误差。在诸多误差因素当中，调焦调平传感器对总离焦量有着重要影响，光刻机的聚焦控制很大程度依赖于调焦调平传感器的准确测量。对Canon、Nikon和ASML的调焦调平传感器进行了调研，对比研究各自的传感器原理和结构，为光刻机的聚焦控制分析提供参考。
激光与光电子学进展
2022, 59(9): 0922016
1 上海交通大学 机械与动力工程学院, 上海 200240
2 上海交通大学 电子信息与电气工程学院, 上海 200240
自动对焦是全自动显微镜的关键技术, 决定着显微镜成像的精确性和实时性。对焦方法包括主动式和被动式两种, 主动式是指基于数字图像处理的对焦方法, 被动式是指基于光学离焦量检测的对焦方法。介绍了两种方法的原理和研究现状, 通过比较其优缺点, 总结出基于离焦误差检测的主动式对焦方法具有更高的精度和速度, 更适用于全自动显微镜系统。
应用光学 全自动显微镜 自动对焦方法 离焦误差检测 applied optics automated microscopy autofocus method defocus error detection
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，长春 130033
为了实现1.23 m望远镜在环境温度从－35℃～+55 ℃变化范围内，光机系统的成像质量的指标要求，本文从原理上分析了温度变化对光机系统中光学元件面形准确度及相对位置关系的影响，推导出了主次镜间光学间隔变化与像面离焦量的比例关系.通过对1.23 m望远镜光学结构的像质分析，结合光机结构设计，搭建了适合环境温度变化的光机系统，从方案设计上满足了望远镜系统的成像要求.通过实际的成像实验，验证了温度变化导致的主次镜光学间隔变化对望远镜系统成像带来的离焦的影响，并给出了具体的温度补偿措施，即采取次镜调焦的方式，可满足具体观测实验的要求.同时，为今后1.23 m望远镜以及类似的大口径望远镜系统的实验和技术改造提出了切实可行的意见.
光机系统 温度影响 大口径望远镜 离焦误差 Opto-mechanical system Influence of the thermal diversification Large aperture of telescope Defocus error
