为了探索研究利用宽波段伪装对光谱成像设备实现有效干扰的可行性, 并定量、客观评估光谱成像伪装干扰效果, 利用一种超光谱成像仪和一种宽波段伪装网进行了光谱成像伪装干扰试验, 并利用平均绝对差分对光谱成像伪装干扰效果进行了定量分析和评估。结果表明, 宽波段伪装网在超光谱成像仪各谱段均有一定的伪装干扰效果, 伪装干扰效果的显著程度因伪装前的目标特性、伪装网层数以及谱段的不同而不同; 利用平均绝对差分准则可以将伪装干扰效果的显著程度定量化, 并排除了主观因素, 使对光谱成像伪装干扰效果的评估更加精确, 因此是一种适用于光谱成像干扰效果评估的定量、客观准则。

为了探索光谱成像干扰效果的评估方法,基于实施干扰前后光谱图像数据图像特性的变化,提出了应用实施干扰前后光谱图像熵的变化量评估光谱成像干扰效果的方法,结合光谱成像伪装干扰试验实测数据对该方法进行了验证分析。结果表明,图像熵的变化量可以定量、精确反映干扰对图像特性的影响,并可便捷、直观地展示光谱成像干扰效果在不同光谱波段之间的定量差别和细微变化,因此可以作为光谱成像干扰效果的一种定量评估指标。

利用一种宽波段伪装网和超光谱成像仪进行了光谱成像伪装干扰试验, 基于实施干扰前后光谱图像数据光谱特性的变化, 利用光谱相似性度量指标, 提出了一种用于评估光谱成像干扰效果的光谱距离准则, 结合光谱成像伪装干扰试验结果, 对该准则的适用性进行了验证分析.结果表明, 在试验条件下, 有效伪装区光谱图像像元在伪装前后光谱向量之间的光谱距离可达0.14~0.5, 具体幅值大小因伪装前的目标特性、伪装网层数、超光谱成像仪增益等因素而异, 而非伪装区和无效伪装区光谱图像像元的光谱距离都在0.05以下, 可见在对目标实施有效的伪装干扰前后, 伪装区像元的光谱距离通常会显著大于非伪装区, 而且伪装效果越显著, 光谱距离就越大.因此, 光谱距离可以定量反映干扰对像元光谱特性的影响, 并能鉴别不同干扰效果之间的细微差别, 所以可用于定量、客观评估光谱成像干扰效果.