南京航空航天大学 机电学院,江苏 南京 210016
采用一种亲水性固结磨料抛光垫(FAP),通过单因素实验法,系统地研究了抛光K9光学玻璃过程中抛光时间、偏心距、压力、转速、抛光液流量及pH值等工艺参数对材料去除速率(MRR)和表面粗糙度的影响规律,并对实验结果进行了解释。结果表明:随着抛光时间的延长,K9光学玻璃的MRR逐渐呈下降趋势;在抛光20 min时,MRR达最大值310 nm/min,且表面粗糙度降至最低值为2.73 nm;选择较大的偏心距和碱性抛光液环境均有利于提高MRR;随着抛光盘转速的升高,MRR将显著增大。而在一定范围内,抛光压力和抛光液流量对MRR的影响不大。
K9光学玻璃 固结磨料抛光垫 抛光工艺 单因素实验 激光与光电子学进展
2010, 47(4): 041603