采用等离子体辅助电子束镀膜法制备了钛酸镧（H4）薄膜，研究了基底温度和离子束流密度等工艺条件及高温退火和等离子体后处理技术对H4薄膜的光学特性和表面形貌的影响。实验发现，适当地提高基底温度和离子束流密度可以提高薄膜折射率和薄膜质量。在基底温度为175 ℃，离子束流密度为120 μA/cm²时，薄膜折射率最高为2.70，且退火和等离子体后处理技术可进一步使薄膜质量得到改善。将优化的工艺参数用于980 nm高反射膜的镀制，并与采用Ta₂O₅、TiO₂作为高反射率材料的高反膜进行了比较，在600 MW/cm²的激光作用下，H4高反膜系的抗激光损伤特性最优。

为了获得制备钛酸镧(LaTiO3)薄膜的最优工艺条件, 采用电子束热蒸发技术在K9基底上制备了单层LaTiO3激光薄膜。研究了不同工艺条件对LaTiO3薄膜激光损伤特性的影响。研究结果表明, 对LaTiO3薄膜激光损伤阈值(laser-induced damage threshold, LIDT)影响最大的工艺条件是沉积温度, 其次是工作真空度, 最后是蒸发束流。获得了制备单层LaTiO3激光薄膜的最优工艺条件: 沉积温度175 ℃、工作真空度2.0×10-2 Pa、蒸发束流120 mA(8 keV); 证明了最优工艺下制备的LaTiO3薄膜具有良好的激光损伤特性、稳定性以及重复性, 所制备LaTiO3薄膜的激光损伤阈值为16.9 J/cm2(1 064 nm, 10 ns)。