具有原子级光滑平面的石墨平台微结构是实现特殊功能微机电器件、微系统的重要基础。石墨微结构的化学信息表征对微机电器件、微系统的制备及性能有着重要的意义。先使用原子力显微镜获得形貌信息，再使用纳米级红外光谱对微结构的不同区域进行表征，获得了多个特征位置的红外光谱。通过对红外光谱的分析发现相对于其他位置，石墨平台表面具有非常有序的碳六元环结构，并且吸附的水分子最少。而石墨平台微结构的边缘由于悬键及微加工等原因是吸附水分子最多的位置，石墨基底由于微加工的破坏已经不具有碳六元环结构。这些信息为了解微结构的化学状态提供了帮助，明确所处环境对石墨平台微结构不同位置的影响，能够指导微机电器件的制备与应用。

采用限位块可以提高MEMS器件的抗冲击性能, 但由于冲击环境中MEMS结构与限位块的碰撞过程可能产生较大的瞬间冲击以致器件失效, 用弹性限位块可以有效解决上述问题, 但是其防护效果会受到限位参数的影响。为了得到限位块最佳设计参数, 首先建立了MEMS器件的冲击动力学模型, 提取了影响MEMS器件冲击响应的因素, 进而分析了限位块弹性系数、限位距对冲击响应的影响; 最后提出了限位块的设计方法并给出了最终设计结果。结果表明: 设计弹性限位块需要兼顾限位效果和缓冲性能, 同时减小限位距也可显著提高微器件抗冲击性能。