1 哈尔滨工业大学 航天学院,哈尔滨 150001
2 中航工业江西洪都航空工业集团660所, 南昌 330024
基于双干扰光路红外干扰模拟器的光束扩束技术, 设计了微透镜阵列扩束系统, 利用光刻胶热熔技术对微透镜阵列进行加工并对干扰模拟系统的能量收集效率进行测试.实验结果表明两干扰光路的能量收集效率分别为27.3%和26.9%, 与设计结果30.8%基本符合；验证了微透镜阵列作为扩束元件在红外干扰模拟器中的应用价值, 为红外成像仿真技术及多干扰光路红外成像目标模拟器的工程化研究提供了参考.
红外干扰模拟器 微透镜阵列 扩束 光能收集效率 光刻胶热熔 Infrared jamming simulator Microlenses array Beam expander Light energy collection efficiency Melting photoresist
1 华中理工大学激光技术国家重点实验室,湖北,武汉,430074
2 中国航天总公司二院25所,北京,100854
提出了一种新的曲率倒易法首次成功地在Si衬底上制作出64×256凹柱面折射微透镜阵列,扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹柱面阵列,表面探针测试结果显示凹微透镜阵列表面光滑、单元重复性好,其平均凹深为2.643μm,凹深非均匀性为8.45%,平均焦距为-47.08μm.
凹微透镜阵列 氩离子束刻蚀. Si Si concave microlenses array Ar ion beam etching.
华中科技大学激光技术国家重点实验室武汉 430074
提出了一种制作128×128球冠型GaAs凹折射微透镜阵列新的方法&&曲率倒易法.扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹球冠面阵列,表面探针测试结果显示阵列表面光滑、单元重复性好,其凹深为1.268μm,焦距为-352.04μm.
凹微透镜阵列 氩离子束刻蚀
1 华中科技大学激光技术国家重点实验室,湖北武汉430074
2 中国航天总公司二院25所,北京100854
提出了一种新的曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作.扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜的焦距可达到3861.70μm,而常规光刻热熔法很难制作出焦距超过200μm的相同尺寸的微透镜阵列.微透镜阵列器件与红外焦平面阵列器件在红外显微镜下对准胶合,显著改善了红外焦平面阵列器件的响应特性.
微透镜阵列 离子束刻蚀 组合器件 红外焦平面阵列器件. GaAs GaAs microlenses array ion beam milling hybrid device IRFPA device.
1 华中科技大学激光技术国家重点实验室, 武汉 430074
2 航天机电集团二院二部, 北京 100854
提出了一种补偿刻蚀法：在经过常规光刻热熔成形和离子束刻蚀技术制成的硅微透镜阵列上再涂敷几层光刻胶,以降低各单元微透镜的曲率,然后再次进行加热固化和离子束刻蚀。扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的球冠形阵列,表面探针测试结果显示用补偿刻蚀法制作的微透镜的F数和F′数分别可达到31.62和35.8<参考文献原文>而常规光刻热熔法很难制作出F数和F′数分别超过1.00和4.00的微透镜阵列。光学填充因子也由常规方法的64.3%提高至78.5%,并且微透镜的点扩散函数也更接近理想值。
微透镜阵列 离子束刻蚀 光刻胶 点扩散函数
