中国电子科技集团公司第十一研究所, 北京 100015
锑化铟是中波红外探测应用较广的材料。抛光片的表面粗糙度是影响器件性能的关键指标。研究了锑化铟化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing, CMP)液的pH值、氧化剂比例以及抛光液流速对锑化铟抛光片表面粗糙度的影响，并结合原子力显微镜(Atomic Force Microscope, AFM)和表面轮廓仪测试对抛光片的表面粗糙度进行了表征和优化。结果表明，当pH值为8、氧化剂比例为0.75%、抛光液流速为200 L/min时，InSb晶片的表面粗糙度为1.05 nm(AFM)，同时晶片的抛光宏观质量较好。
锑化铟 表面粗糙度 pH值 氧化剂比例 抛光液流速 抛光宏观质量 indium antimonide surface roughness pH value proportion of oxidant flow rate of the polishing solution polishing macro quality
1 同济大学海洋地质国家重点实验室, 上海 200092
2 中国地质大学地质过程与矿产资源国家重点实验室, 湖北 武汉 430074
采用高纯HNO3为氧化剂代替传统的氧化剂, 以GeO2为玻璃化试剂, 建立了一种简单、 高效的硫化物熔融玻璃片的前处理方法。 XRF和LA-ICPMS分析结果表明, 相对于粉末压片法, 熔片法制备的样品具有更好的均一性和可靠性。 3种硫化物国家一级标准物质的XRF和LA-ICPMS主次量元素（Si, Al, Fe, Mg, K, Ca, Na, Mn, Cu, Zn）分析测试结果均与推荐值相吻合(Ti缺少推荐值), 测定误差都在允许范围内, XRF三次熔片测试结果的精密度RSD<5.6%; LA-ICPMS 15次测试结果精密度RSD<3%。 表明建立的硫化物熔融玻璃片的前处理方法可较好的应用于XRF和LA-ICPMS分析硫化物中的主次量元素。
硫化物 X射线荧光光谱仪 激光剥蚀电感耦合等离子体质谱仪 氧化剂 二氧化锗 X-ray fluorescence spectrometry Laser ablation inductivelycoupled plasma mass spec Oxidant Germanium dioxide 光谱学与光谱分析
2016, 36(11): 3683
