作者单位
摘要
1 福州大学 物理与信息工程学院, 福建 福州  350116
2 中国福建光电信息科学与技术创新实验室, 福建 福州  350108
针对Micro-LED器件微型化带来的尺寸效应、高速巨量转移、发光器件与驱动背板的高精度键合等问题,本文通过金属有机化学气相沉积和原子层沉积技术制备了一种垂直结构的交流驱动无电学接触型GaN基Micro-LED器件,研究了其光电特性。结果表明,器件电路模型可等效为RC电路,随着交流驱动信号频率的增大,器件等效阻抗先快速减小后趋于稳定。当频率固定时,器件I-V特性呈线性关系,器件等效阻抗稳定,器件亮度随着驱动电压增大而增强。当驱动电压固定时,器件在16~22 MHz频率范围内达到最大亮度,且亮度随频率增加呈现先上升后下降趋势;此外,由于回路呈电容特性,无电学接触型Micro-LED器件存在发光延迟效应和电流超前效应。对比传统Micro-LED器件,无电学接触型Micro-LED器件与外部电极无电学接触,在交流驱动条件下实现内部载流子复合发光,有望解决Micro-LED芯片微型化带来的技术难题。
Micro-LED器件 氮化镓 无电学接触 交流驱动 光电特性 Micro-LED device GaN non-electrical contact alternating-current drive photoelectric characteristics 
发光学报
2023, 44(12): 2242
作者单位
摘要
1 福州大学 物理与信息工程学院, 福建 福州  350116
2 中国福建光电信息科学与技术创新实验室, 福建 福州  350108
针对传统Micro?LED芯片巨量转移与键合、发光芯片与驱动电极高质量接触等技术难题,本文采用金属有机化合物化学气相沉积和原子层沉积工艺制备无电学接触型氮化镓基Micro?LED器件,研究了器件的伏安特性、亮度?频率特性、发光延迟特性及阻抗?频率特性等光电特性,并分析了器件工作机理。实验结果表明,交流驱动的无电学接触型Micro?LED器件的电流随着频率的增大而增大,且I?V特性呈线性关系。在20Vpp的驱动信号下,器件亮度随频率的增大先上升后下降,在频率为25 MHz时,器件亮度达到最大,且发光峰值滞后于电流峰值,说明器件的发光存在延迟。器件的等效阻抗随着频率的增大呈现先减小后趋于稳定的趋势,且器件在频率53 MHz附近出现负电容现象。
Micro-LED器件 氮化镓 无电学接触 交流驱动 光电特性 Micro-LED device GaN non-electrical contact alternating-current drive photoelectric characteristics 
发光学报
2022, 43(10): 1592
作者单位
摘要
1 中国科学院西安光学精密机械研究所 瞬态光学与光子技术国家重点实验室, 西安 710119;中国科学院大学, 北京 100049
2 中国科学院西安光学精密机械研究所 瞬态光学与光子技术国家重点实验室, 西安 710119
为了解决阵列中每个发光点性能分布不均的问题,研究了微通道水冷封装的960 nm半导体激光器阵列,阵列包含38个发光点,腔长为2 mm,在驱动电流为600 A、占空比为10%的条件下,输出的峰值功率达到665.6 W,电光转换效率为63.8%,中心波长为959.5 nm.通过对应力的理论分析,给出了各个发光点应变的表达式;通过搭建单点测试系统获得阵列中每个发光点的阈值电流、斜率效率、光谱和功率等光电特性;结合应变理论分析可知,器件中发光点的性能与应变大小和类型密切相关,压应变会导致器件波长蓝移、阈值电流降低、功率和斜率效率升高,张应变会导致波长红移、阈值电流升高、功率和斜率效率降低.研究表明,影响器件内部发光点的性能不仅与热效应有关,而且与封装后残余的应变密切相关,通过应力的分布可以预测阵列性能的变化规律,可为高峰值功率、高可靠性的半导体激光阵列的研制提供参考.
高功率半导体激光阵列 独立发光点 应变 微通道 光电特性 High-power semiconductor laser array Independent emitter Strain Microchannel Photoelectric characteristics 
光子学报
2020, 49(9): 0914001
作者单位
摘要
南京航空航天大学 材料科学与技术学院 江苏省能量转换材料与技术重点实验室, 南京 210016
采用电子束蒸镀预制层, 再对预制层进行硒化的两步法工艺, 通过调节硒化温度和退火时间, 在玻璃基底上成功制备了SnSe薄膜。利用X射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜、紫外可见近红外分光光度计等研究了SnSe薄膜的物相、微观形貌和光学性能。结果表明, 在450℃下硒化退火60min可制备出纯相的多晶SnSe薄膜, 其带隙为0.93eV。在功率为200mW/cm2的980nm激光照射下, 对SnSe薄膜进行了光电响应特性测试, 通过曲线模拟得出所制薄膜的响应时间和恢复时间分别为62和80ms。
薄膜 硒化条件 两步法 光电性能 SnSe SnSe thin film selenium condition two-step method photoelectric characteristics 
半导体光电
2020, 41(3): 374
作者单位
摘要
西安理工大学 自动化与信息工程学院, 西安 710048
采用溶液旋涂和高真空蒸镀工艺制备了平面和体异质结混合型器件结构的三基色有机光电探测器, 利用实验分步探究其不同组分的活性层厚度、混合度以及前置吸收层对器件光电特性的影响.在此基础上, 对三基色有机光电探测器进行样品制备及测试.结果表明, 混合型结构的光电探测器件对光的吸收几乎覆盖整个可见光区域, 对350~700 nm范围的光呈现出类似于平台式的宽光谱响应.该器件在-1 V偏置电压下, 对红、绿、蓝光的比探测率分别为2.89×1011 Jones、3.22×1011 Jones、1.97×1011 Jones, 表明该器件对红、绿、蓝光有较好探测效果, 尤其对红光的探测率有3~4倍提升.
有机光电探测器 三基色 活性层 光电特性 混合型结构 宽光谱响应 Organic photodetectors Trichromatic Active layer Photoelectric characteristics Hybrid structure Broad spectral response PBDT-TT-F∶PCBM PBDT-TT-F∶PCBM 
光子学报
2018, 47(8): 0804001
作者单位
摘要
1 上海理工大学 光电信息与计算机工程学院, 上海 200093
2 上海理工大学 上海市现代系统光学重点实验室, 上海 200093
采用直流磁控溅射法,以柔性PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)为基底,通过参数优化以求在室温下制备高性能ZnO/Ag/ZnO 多层薄膜。实验中,使用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计、四探针电阻测试仪等仪器分别对ZnO/Ag/ZnO多层薄膜的微观结构、表面形貌、透过率及方块电阻进行测试及表征。结果表明,随着Ag层厚度增加,薄膜方块电阻急剧下降,通过改变ZnO层厚度,可有效调节薄膜光学性能,随着ZnO层厚度增加,可见光区平均透过率先增大后减小。引入品质因子FTC作为评价指标可知,当依次沉积ZnO、Ag、ZnO厚度为50 nm、8 nm、50 nm时,薄膜光电性能最佳,其在可见光平均透过率为82.3%、方块电阻为2.8 Ω/□、禁带宽度为3.332 eV。
ZnO薄膜 磁控溅射 透明导电薄膜 光电特性 ZnO thin film magnetron sputtering transparent conductive film photoelectric characteristics 
光学仪器
2018, 40(2): 77
作者单位
摘要
西安理工大学, 陕西 西安 710048
采用旋涂工艺与蒸镀工艺结合的方法制备了PBDT-TT-F∶PCBM体异质结红光探测器, 研究了活性层的混合比例和厚度、退火温度等因素对器件光电特性的影响。实验结果表明: 活性层PBDT-TT-F∶PCBM的混合质量比为1∶1.5、厚度为150 nm、退火温度为100 ℃、时间为15 min时制备的器件性能最佳, 在波长为650 nm、功率为6.6 mW/cm2的光照下, 探测器光电流密度可达到0.85 mA/cm2, 光响应度达到128 mA/W。
有机光电探测器 红光 活性层 光电特性 organic detectors red light active layer photoelectric characteristics 
发光学报
2017, 38(12): 1643
作者单位
摘要
重庆光电技术研究所, 重庆 400060
运用半导体二维数值模拟软件sentaurus TCAD, 对基于p型衬底制作的横向抗晕内线转移CCD的弥散特性进行了数值模拟研究, 建立了sentaurus TCAD软件模拟横向抗晕内线转移CCD器件仿真模型, 对影响器件弥散特性的光敏区n型区域、垂直CCD p阱进行了模拟分析。结果表明, 光敏区n型区域注入能量控制在450~550keV, 垂直CCD p阱注入能量控制在200~600keV, 剂量控制在4.0×1012~8.0×1012cm-2, 器件弥散特性最佳。
内线转移CCD 弥散特性 横向抗晕 数值模拟 interline CCD photoelectric characteristics lateral-blooming simulation 
半导体光电
2016, 37(6): 788
作者单位
摘要
重庆光电技术研究所,重庆 400060
采用三层多晶硅、埋沟、双层金属工艺研制了1/2英寸823×592、8.3μm×8.3μm内线转移CCD,该器件设计制作了纵向抗晕结构,实现了内线转移器件光晕抑制。该器件水平驱动频率可达30MHz,峰值响应波长位于550nm,动态范围62.6dB。
内线转移CCD 光电特性 纵向抗晕 interline CCD photoelectric characteristics vertical-blooming 
半导体光电
2015, 36(6): 905
作者单位
摘要
重庆光电技术研究所, 重庆 400060
运用半导体二维数值模拟软件sentaurus TCAD, 对内线转移可见光CCD积分过程、读出过程光敏区域电势变化规律进行了数值模拟研究, 建立了sentaurus TCAD软件模拟内线转移CCD器件的仿真模型; 对影响器件电荷容量、抗晕性能的纵向抗晕p阱浓度、结深进行了模拟分析, 得出p阱浓度应控制在(2.5~5.5)×1016cm-3, 结深应控制在5.5~6.5μm的结论。
内线转移CCD 光电特性 纵向抗晕 数值模拟 interline transfer CCD photoelectric characteristics vertical-blooming simulation 
半导体光电
2014, 35(5): 773

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