张浩 1,2,3侯雅青 1,2王炫东 1,2苏航 2,*
作者单位
摘要
1 钢铁研究总院,北京 100081
2 中国钢研科技集团有限公司数字化研发中心,北京 100081
3 重庆安德瑞源科技有限公司,重庆 400050
采用Fe、Cr和Ni单质元素混合粉末作为LPBF原材料,以原位合金化的方式制备304L不锈钢,研究了工艺参数对试样密度、微观组织、成分均匀性、相结构和显微硬度的影响,并将其与预合金粉末LPBF试样进行了对比。结果表明:原位合金化试样的致密度最高可达99.05%;随着激光能量密度增加,试样的成分均匀性逐渐提高,物相结构从面心立方+体心立方(FCC+BCC)转变为FCC;当激光能量密度为242 J/mm3P=290 W,v=500 mm/s)时,能谱分析结果显示原位合金化试样成分均匀,显微硬度为224 HV,微观形貌与预合金粉末LPBF试样一致;当激光能量密度较低时,原位合金化试样内部的多相结构以及异质形核产生的细晶结构能有效提高其硬度,硬度最高可达302 HV,较预合金LPBF试样提高了26.4%。
激光技术 激光粉末床熔融 原位合金化 304L不锈钢 工艺窗口 成分均匀性 
中国激光
2023, 50(4): 0402001
钟志坚 1,2李琛毅 1,2李世光 1,2,3,*郭磊 1,2,3韦亚一 1,2
作者单位
摘要
1 中国科学院微电子研究所,北京 100029
2 中国科学院大学,北京 100049
3 江苏影速集成电路装备股份有限公司,无锡 214142
随着大规模集成电路芯片制造的技术节点不断缩小,光刻机的聚焦控制变得尤为困难。为了保证硅片曝光的质量,需要快速、准确地将硅片在几十纳米的聚焦深度范围(DOF)内进行快速调整。因此,需要仔细分析光刻过程中导致焦点偏移或工艺窗口变化的各种因素,制定合理的聚焦控制预算,将各种误差因素控制在一定范围内。本文聚焦极紫外(EUV)光刻,综述包含EUV在内的先进光刻机中光路部分对聚焦控制有影响的各种因素,总结它们产生的原理及仿真、实验结果,为开展先进光刻聚焦控制预算研究提供参考。
聚焦控制 光刻 预算 最佳焦点 聚焦深度 工艺窗口 focus control lithography budget best focus depth of focus process window 
中国光学
2021, 14(5): 1104
作者单位
摘要
北京工业大学激光工程研究院高功率及超快激光先进制造实验室, 北京 100124
振镜扫描激光微焊接是激光微焊接的发展方向。采用基模光纤激光器及振镜系统对厚度为100 μm的AISI304不锈钢箔进行平板扫描焊接,对比研究了氩气保护与无气体保护时的激光微焊接工艺,建立了两种条件下激光微焊接的工艺窗口。结果表明:无气体保护时,激光微焊接会产生不稳定过渡区,其产生机理不是热导焊接模式和深熔焊接模式的交替出现,而是氧化导致的深熔焊接过程不稳定;气体保护可以避免不稳定过渡区的产生,并扩大焊接工艺窗口。
激光技术 不锈钢箔 光纤激光微焊接 气体保护 过渡区 工艺窗口 
中国激光
2019, 46(11): 1102006
作者单位
摘要
1 中国电子科技集团公司光电研究院,天津 300000
2 空军装备部重点型号部,北京 100843
针对天地背景轮廓线具有波动起伏、边缘模糊及轮廓边缘灰度值变化缓慢的特点,采用灰度阈值方法,实现了多种天地背景边缘轮廓提取,可为后续的天空背景图像分割及空中目标检测提供技术支持。算法具有实现简单、计算量小、运行速度快、定位精确、抑制噪声的特点,弥补了经典图像边缘提取算法的不足,并结合远距离摄录的天空海面、天空海面岛屿、天空山地等背景的视频图像,给出了文中检测算法与其他算法的图像处理结果对比分析。
边缘检测 阈值 灰度值 处理窗口 轮廓线 edge detection threshold grey value process window contour line 
光电技术应用
2014, 29(6): 46
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室, 上海 201800
2 中国科学院大学, 北京 100049
随着集成电路特征尺寸进入2Xnm及以下节点,光源与掩模联合优化(SMO)成为了拓展193 nm ArF浸没式光刻工艺窗口、减小工艺因子的重要分辨率增强技术(RET)之一。提出了一种基于随机并行梯度速降(SPGD)算法的SMO方法,通过随机扰动进行梯度估计,利用估计梯度来迭代更新光源与掩模,避免了求解梯度解析表达式的过程,降低了优化复杂度。对周期接触孔阵列及十字线、密集线三种掩模图形的仿真验证表明,三种掩模图形误差(PE)值分别降低了75%、80%与70%,该方法较大程度地提高了光刻成像质量。
光学制造 光刻 光源与掩模联合优化 分辨率增强技术 工艺窗口 
光学学报
2014, 34(9): 0911002
作者单位
摘要
1 广东工业大学实验教学部, 广东 广州 510006
2 广东工业大学物理与光电工程学院, 广东 广州 510006
针对351 nm波长的 XeF 准分子激光器,自行设计了用于高精度、高产率、大面积且常规抗蚀剂曝光的印刷电路板 (PCB) 激光 投影成像照明系统。根据准分子激光的部分相干平顶高斯光束 (PCFGB) 理论模型,对微透镜阵列器 (MLA) 均束的衍射特性进行了 理论分析。由 PCFGB 分布函数、稳定光强输出的衍射角和菲涅耳-基尔霍夫衍射积分公式,定量分析衍射效应对 MLA 均束的影响。 理论计算表明,微透镜边缘发生菲涅耳衍射和微透镜产生的多光束干涉都能引起光振幅调制,只不过衍射产生的尖峰更明显地 出现在光束边缘。同时,由数值积分得到的 PCFGB 曲线,发现 9×9 MLA 均束器既能保证多个微透镜产生光束叠加的均匀性, 又最大程度地减少了衍射和多光束干涉效应。通过采取加正六边形光阑的方法,不仅能满足大面积无缝扫描光刻的需要, 而且能剪裁由衍射引起的光束边缘尖峰。由 ZEMAX 光学设计软件模拟其效果,显示其加工窗不大于±2%。
激光技术 均束器 激光投影成像光刻 XeF准分子激光 印刷电路板 加工窗 laser techniques beam homogenizer laser projection imaging lithography XeF excimer printed circuit boards process window 
量子电子学报
2009, 26(3): 360
作者单位
摘要
中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800
详细研究了准分子激光光束均匀性的各项评价指标,加工窗口描述了加工任务本身对光束均匀度的要求;能量分数回答了具体加工窗口即均匀度要求下的能量利用率问题;平顶因子则描述了整个光斑能量分布范围内的均匀性问题.利用激光波面分析仪对不同均匀器所获得的均匀光束进行评价比较,蝇眼透镜均匀器能量利用率高,整个光斑内的均匀效果好,但最佳均匀截面的位置动态范围小;组合棱镜均匀器均匀截面动态范围大,但整体均匀效量较差.
准分子激光 光束均匀性 加工窗口 平顶因子 Excimer laser Beam uniformity Process window Top-hat factor 
强激光与粒子束
2004, 16(6): 729

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