采用雾化施液化学机械抛光(CMP)的方法, 以材料去除速率和表面粗糙度为评价指标, 选取最适合硒化锌抛光的磨料, 通过单因素实验对比CeO2、SiO2和Al2O3 三种磨料的抛光效果。结果显示：采用Al2O3抛光液可以获得最高的材料去除率, 为615.19nm/min, 而CeO2和SiO2磨料的材料去除率分别只有184.92和78.56nm/min。进一步分析磨料粒径对实验结果的影响规律, 表明100nm Al2O3抛光后的表面质量最佳, 粗糙度Ra仅为2.51nm, 300nm Al2O3的去除速率最大, 达到1256.5nm/min, 但表面存在严重缺陷, 出现明显划痕和蚀坑。在相同工况条件下, 与传统化学机械抛光相比, 精细雾化抛光的去除速率和表面粗糙度与传统抛光相近, 但所用抛光液量约为传统抛光的1/8, 大大提高了抛光液的利用率。