为了满足光电设备窗口片的使用要求, 设计了一种以硒化锌为基底的多波段红外增透膜。为了达到多波段增透的目的, 选取硫化锌、氟化镱分别作为高、低折射率材料, 在硒化锌基底前后表面镀制相同的多波段红外增透膜。最终实现0.808 μm、0.880 μm、0.915 μm处透过率在91%以上, 3.7~4.8 μm和10.6 μm处透过率在95%以上, 并且膜层具有良好耐环境适应性。

采用电子束热蒸发技术制备了ZnSe薄膜, 研究了532 nm波长的不同能量(2.0 mJ、2.5 mJ、3.0 mJ)、不同脉冲数(3、10、15)激光诱导前后, ZnSe薄膜的透射率、折射率、消光系数、损伤阈值(LIDT)的变迁。研究结果显示, 在能量为2.0 mJ激光辐照后, ZnSe薄膜折射率提高, 透射率下降。相比较能量为2.5 mJ、3.0 mJ激光辐照, 在能量为2.0 mJ激光辐照后折射率提高最明显, 由2.489 4提高到2.501 6。薄膜损伤阈值从0.99 J/cm2提高到1.39 J/cm2(10脉冲辐照); 薄膜的损伤经过了无损伤到严重损伤突变的损伤演变过程。采用原子力显微镜对预处理后薄膜表面粗糙度进行检测, 发现激光预处理后的薄膜表面粗糙度Ra有所下降, 从0.563 nm降低到0.490 nm(15脉冲激光辐照)。

采用雾化施液化学机械抛光(CMP)的方法, 以材料去除速率和表面粗糙度为评价指标, 选取最适合硒化锌抛光的磨料, 通过单因素实验对比CeO2、SiO2和Al2O3 三种磨料的抛光效果。结果显示：采用Al2O3抛光液可以获得最高的材料去除率, 为615.19nm/min, 而CeO2和SiO2磨料的材料去除率分别只有184.92和78.56nm/min。进一步分析磨料粒径对实验结果的影响规律, 表明100nm Al2O3抛光后的表面质量最佳, 粗糙度Ra仅为2.51nm, 300nm Al2O3的去除速率最大, 达到1256.5nm/min, 但表面存在严重缺陷, 出现明显划痕和蚀坑。在相同工况条件下, 与传统化学机械抛光相比, 精细雾化抛光的去除速率和表面粗糙度与传统抛光相近, 但所用抛光液量约为传统抛光的1/8, 大大提高了抛光液的利用率。

利用硒化锌微球表面的银镜反应制备了银/硒化锌（Ag/ZnSe）核壳结构微球, 并利用扫描电镜（SEM）、 X射线衍射（XRD）以及傅里叶变换红外光谱仪对其进行了表征, 研究了Ag/ZnSe核壳结构对硝酸钠水溶液红外吸收光谱特性的影响。 结果表明, Ag/ZnSe核壳结构微球使得硝酸钠反对称伸缩振动模式频率发生了明显的蓝移, 振动强度有了较大程度的提高。

建立了单块样品和两块叠加样品的透射比计算模型, 并提出了一种基于两块相同厚度样品叠加后的透射光谱反演其光学常数的新方法。 通过Bruke V70傅里叶光谱仪测试了不同厚度单块硒化锌样品以及两块硒化锌样品叠加的1.33～21 μm范围的透射光谱, 结合实验透射光谱利用光学常数反演方法, 计算得到了硒化锌样品的光学常数。 部分反演结果与文献中数据进行比较, 验证了反演方法的可靠性。

分析了(xyt)φ1切型长度伸缩振动模式下硒化锌晶体谐振器的频率温度特性。推导了温度与硒化锌晶体的密度、杨氏模量和膨胀等材料性质的关系，计算了硒化锌晶体的频率温度系数。结果表明，相对于硒化锌的一级频率温度系数而言，硒化锌的高级频率温度系数可以忽略。弹光调制系统工作时所产生的热量会引起温度变化，从而导致谐振频率改变。当弹光调制系统工作在50kHz的谐振频率位置时，硒化锌晶体温度每改变1℃，晶体本征频率改变2.5Hz，相对于弹光调制系统16Hz的谐振半峰宽而言，该频率温度漂移不可忽略。

硒化锌材料具有较宽的透光区,使其在红外区有着广泛的应用,然而其作为基底,镀制超宽带增透膜却有相当大的难度,尤其是膜层强度问题。设计出了硒化锌基底上2-16 μm的多层超宽带增透膜,并采用离子束辅助沉积工艺在硒化锌基底上进行了多次实验,并对所使用的氟化钇(YF3)和硒化锌膜料进行了分析,发现YF3在3400和1640 cm-1两个波数处的吸收峰。通过将低折射率层改为氟化钡和氟化钇的组合层后,在硒化锌基底上成功镀制出了多层宽带增透膜并采用脉冲电弧离子镀技术在多层薄膜的表面镀制了一定厚度的类金刚石(DLC)薄膜,增强了膜层的强度。最终使硒化锌基底上镀制的超宽带增透膜在2-16 μm范围内的平均透射比大于93%,峰值透射比大于97%,并且膜层的强度较好。