1 中国科学院光电技术研究所, 四川 成都 610209
2 电子科技大学光电信息学院, 四川 成都 610054
3 中国科学院研究生院, 北京 100049
光刻对准中，一般将硅片和掩模对准标记制作成周期接近的光栅,通过光栅标记叠加形成的叠栅条纹的相位信息,探测掩模和硅片的相对位置关系。在实际的应用中，叠栅条纹的方向不仅与对准标记的几何位置有关，而且还与CCD的位置有关。为了将叠栅条纹的光刻对准方法推向实际应用，从矩形光栅到叠栅条纹，分析了一般光栅的相位分布规律。根据叠栅条纹相位特性分析了掩模、基片和CCD的几何位置对对准精度的影响；建立了实际对准偏差与理论值的数学关系模型。研究表明，没有角位移的情况下，当位移值小于0.4 pixel时，理论上最大对准误差低于0.002 pixel。
测量 光刻对准 角位移 叠栅条纹 相位分析
在传统傅里叶变换轮廓术三维面型测量中, 为了准确得到被测物体的高度分布, 必需保证投影仪出射光瞳和摄像机入射光瞳的连线与参考面平行并且在同一水平面, 否则存在较大的误差。着眼于更普通的情况, 讨论双瞳连线与参考面成某一夹角时的高度计算, 推导出了非平行时的参考面光场及物面变形条纹光场的表达式, 并给出了高度映射公式。因而, 传统的傅里叶变换轮廓术测量成为角度α=0时的特例。该方法使傅里叶变换轮廓术的测量条件得到了放宽;易于通过移动投影装置或成像装置获取全场条纹;并为在难以实现双瞳与参考面平行的特殊环境下的测量提供了可行的方法。计算机模拟及实验均证实了该方法的有效性。
傅里叶变换轮廓术 相位计算 相位高度映射 条纹处理 误差分析
