于海鑫 1,2王海珠 1,2,*郎天宇 1,2吕明辉 1,2[ ... ]邹永刚 1,2
作者单位
摘要
1 长春理工大学 重庆研究院,重庆 401135
2 长春理工大学 高功率半导体激光国家重点实验室,吉林 长春 130022
InGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)作为一种常见的Ⅲ?Ⅴ族外延材料,通常应用于半导体激光器和太阳能电池等领域。然而,由于量子阱的势阱层和势垒层生长温度不同,铟原子的偏析和多量子阱生长质量较差等问题尚未得到很好的解决。本文设计了一种砷化镓(GaAs)材料作为插入层(ISL),并用于InGaAs/AlGaAs MQWs的结构。PL、XRD、AFM测试表明,GaAs插入层保证了MQWs结构中更多的辐射复合,阻止了铟原子的偏析。但GaAs插入层的引入也会产生“局域态”,影响量子阱的发光性质。本研究可以加深对InGaAs/AlGaAs多量子阱辐射复合机制的理解,并且对引入GaAs插入层的InGaAs/AlGaAs多量子阱发光性质的研究具有重要意义。
InGaAs/AlGaAs多量子阱 局域态 插入层 金属有机化合物气相外延(MOCVD) InGaAs/AlGaAs multiple quantum wells local state insert layer metal-organic compound gas phase epitaxy (MOCVD) 
发光学报
2023, 44(11): 1967
作者单位
摘要
长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室, 吉林 长春 130022
I型InGaAsSb/AlGaAsSb量子阱是1.8~3 μm波段锑化物半导体激光器的首选材料,为进一步提升分子束外延生长的InGaAsSb/AlGaAsSb量子阱材料的光学性能,本文对其进行了快速热退火处理,通过光致发光光谱研究了快速热退火对量子阱材料光致发光特性的影响。光致发光光谱测试结果表明,快速热退火会使量子阱结构中垒层、阱层异质界面处的原子互扩散,改善量子阱材料的晶体质量,促使结构释放应力,进而提高了量子阱材料的光学性能。随着退火温度升高,量子阱材料的室温光致发光谱峰位逐渐蓝移,在500,550,600 ℃退火后,量子阱材料光致发光谱的峰位分别蓝移了7,8,9 meV。通过变温及变功率光致发光光谱测试,确认了样品发光峰的来源,位于0.687 eV的发光峰为局域载流子的复合,位于0.701 eV的发光峰为自由激子的复合。对不同退火温度的样品进一步研究后发现,退火温度的升高降低了材料中局域态载流子复合的比例,在600 ℃退火温度下局域载流子与自由激子的强度比值降为500 ℃退火温度下的22.6%,这表明合适温度的快速热退火处理可以有效改善量子阱材料的光致发光特性。
光谱学 光致发光 InGaAsSb/AlGaAsSb 量子阱 快速热退火 局域态 
中国激光
2021, 48(7): 0711001
作者单位
摘要
中国科学院半导体研究所 半导体材料科学重点实验室 低维半导体材料与器件北京市重点实验室, 北京 100083
通过MOVPE方法生长了不同Al组分的3块AlxGa1-xN样品, 利用稳态光谱和时间分辨光谱对其样品的光学特性进行了分析。鉴于影响氮化物发光性质的极化电场或局域态的单一机制不能充分解释我们的实验现象, 提出了局域态-内部极化电场竞争的机制。通过对实验数据的分析, 得出如下重要结论: 样品PL峰位蓝移的温度起点基本对应于局域态和极化电场起作用的交替点, PL峰位发生蓝移的温度起点与光强-温度曲线的斜率出现明显变化的温度点一致; 随着温度的升高, 若AlGaN合金样品中PL峰位存在二次蓝移, 则说明样品中电场分布不均匀。
发光强度 局域态 极化电场 温度 AlGaN合金 illuminant intensity local state polarization electric field temperature AlGaN alloy 
发光学报
2014, 35(7): 761
作者单位
摘要
1 State Key Lab. on Integrated Optoelectron., Jilin University Region, Changchun 130023, CHN
2 Dept. of Chemistry, Northeast Normal University, Changchun 130024, CHN
3 Dept. of Chemistry, Jilin University, Changchun 130023, CHN
4 Institute of Material Physics, Tianjin Institute of Technology, Tianjin 300191, CHN
5 Material Research Center, Northwestern University, Evanston, IL60208-3108, USA
MEH-PPV Surface photovoltage Local state 
半导体光子学与技术
2002, 8(3): 145

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