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相同关键词【maskless lithogrophy】论文列表

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微纳技术与精密机械

基于卷积神经网络判定方法的激光微透镜阵列微米级加工工艺

姚宇超 ¹周锐 ^1,2,*严星 ¹王振忠 ³高娜 ^4,5

作者单位

摘要

¹ 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院，福建厦门36005

² 福建省能源材料科学与技术创新实验室（IKKEM），福建厦门361005

³ 厦门大学航空航天学院，福建厦门61102

⁴ 厦门大学物理科学与技术学院，福建厦门361005

⁵ 厦门大学九江研究院，江西九江332000

在MLA曝光工艺中，曝光点的数量庞大，通过高倍率显微镜配合人工目检来判定曝光质量耗时耗力，造成工艺成本偏高。为了解决这个问题，设计了一种便于检测的圆环形图案并引入深度学习中的目标检测Yolov5模型，一定程度上能够取代人工目检，完成对曝光质量的快速判定。基于上述方法，分析了不同光刻胶厚度之下，线能量密度的最优区间与光刻胶的剖面倾角。并在同等线能量密度下通过圆度判定曝光图案失真情况。在本研究的MLA曝光工艺中，选取光刻胶厚度、激光曝光功率以及加工平台移动速度作为自变量，评价曝光合格率、光刻胶剖面倾角以及曝光圆度等加工质量参数具有重要的工程意义。

无掩膜光刻微透镜阵列曝光合格率目标检测 maskless lithogrophy microlens array qualification rate object detection

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光学精密工程

2024, 32(1): 43

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