为了满足5G光通信对细波分复用（LWDM）窄带滤光膜的要求，笔者采用电子束与离子辅助沉积技术，在K9基底上镀制了高质量光通信滤光膜。提出了一种高精度调试膜厚均匀性与光谱一致性的方法，该方法通过对特殊膜系镀膜结果进行反演分析，能快速分析出Ta₂O₅和SiO₂两种材料光学厚度的误差，根据分析结果调节修正板，可以有效解决光学厚度匹配的问题，改善窄带滤光膜光谱。在镀制过程中采用光学直接监控法监控膜厚，对基板的实时光量值曲线进行拟合，根据拟合结果监控膜层厚度，同时采用晶控平均厚度法对耦合层与非规整膜层进行监控，提高了监控精度。最终制备的滤光膜在-0.2 dB处的带宽为4.1 nm，通带内最大插入损耗为0.14 dB，通带波纹为0.04 dB，-27 dB处带宽为6.0 nm，满足细波分复用窄带滤光膜的技术要求。

滑坡灾害在我国易发频发，常造成严重的财产损失和人员伤亡。因此，进行科学有效的滑坡监测对防灾减灾具有重要的意义。近几十年来，随着监测技术的不断发展，滑坡监测水平得到了显著的提高和完善，已逐渐从过去的低精度、点式、人工监测过渡到高精度、分布式、自动化监测，有力支撑了从国家到地方各级政府应对滑坡灾害的能力。为此，本文从空（太空卫星遥感）、天（低空无人机遥感）、地（地表）、内（滑坡体内部）四个方面对当前滑坡监测技术进行了总结和评价，重点对分布式光纤感测技术在滑坡监测中的应用方法及效果进行了叙述。研究结果表明：对滑坡体内部进行多源多场监测可获取滑坡多场信息，进一步分析可建立多场信息的关联模型，为滑坡稳定性评价与治理提供可靠的数据支撑，具有良好的研究潜力和应用前景。最后，对实现滑坡变形的精准可靠监测和预测预警的新思路进行了展望。

为了研究化学镀膜过程中本征应力的演变过程, 建立了基于光纤光栅传感的本征应力计算模型, 提出了一种监测化学镀膜过程本征应力演变的方法.通过记录光纤光栅中心波长的偏移量, 结合裸光栅进行补偿, 实现了在线监测化学镀膜过程产生的本征应力.使用光纤光栅传感器对化学镀Cu过程中本征应力进行监测.结果表明：在化学镀Cu过程中, 光纤光栅中心波长蓝移, 本征应力表现为压应力, 且本征应力随时间的增加而增大；监测光栅的压力灵敏度为4.10 pm/MPa, 监测准确度可达到0.24 Mpa.

由于传统的光功率采集仪精度不高，在实验中无法明显地显示出光功率在短期内的变化，而采集电压的数据采集系统可以很好地解决这个问题。在分析1 310 nm超辐射发光二极管(Super Luminescent Diode，SLD)光源的工作原理的基础上，设计了一种在恒温条件下控制驱动电流来使SLD稳定工作的驱动电路，进行了理论分析和实验验证，给出了利用SLD电压降监测输出光功率的新方法，取得了真实可靠的实验数据。通过SLD光源的驱动实验得出输出光功率与驱动电流和SLD两端电压降的相关关系，结果表明，输出光功率与电流具有良好的线性关系，与电压具有良好的正相关指数关系。利用采集电压降监测SLD的输出光功率，大大提高了测试精度和数据分辨率，同时为SLD退化寿命试验提供了新的电学参数。