1 中国科学院 上海光学精密机械研究所, 强激光材料重点实验室, 上海 201800
2 中国科学院大学, 北京 100049
3 中国工程物理研究院 上海激光等离子体所, 上海 201800
采用多光束应力实时测量装置监控并分析了磁控溅射Si和SiNx薄膜的总力及应力演化过程。在两种膜层中均观察到了应力释放及恢复现象。Si膜中应力是可逆的，而SiNx膜中应力是部分可逆的。物理吸附和解吸附分别是应力释放和恢复的主要原因。不可逆的应力分量来源于化学吸附，基于吸附机制建立了一个应力释放模型。
应力释放 应力恢复 物理吸附 化学吸附 stress relaxation stress recovery physical adsorption chemical adsorption 强激光与粒子束
2013, 25(11): 2826
