西南科技大学 理学院 激光与光电子实验室，极端条件物质特性实验室，四川 绵阳 621010
研究了在不同气体环境下，利用532 nm Nd∶YAG纳秒脉冲激光累积辐照单晶硅表面形成的微结构，结果表明，在其他条件相同，背景气体不同的情况下，背景气体对硅表面形貌的形成起着重要的作用。具体分析了真空、N2和SF6 3种环境气氛下形成的微结构，结果显示，在SF6中形成的锥形微结构的数密度比在N2和真空中的大，并且锥形具有更大的纵横比; 在N2、真空和SF6中形成的微结构尺寸依次减小。SF6气氛下，激光辅助化学刻蚀的效率比在真空和N2气氛中的高。另外，辐照区域边缘有波纹微结构形成，分析认为，该微结构的形成是由表面张力波的冷却导致的。
激光应用 表面微处理 激光辅助化学刻蚀 硅 表面形貌 laser application surface micro-processing laser-induced chemical etching silicon surface morphology
