1 长春理工大学光电工程学院, 吉林 长春 130022
2 成都国泰真空设备有限公司, 四川 成都 611130
基于非余弦膜厚计算公式,提出了利用极坐标简化表征膜厚分布的方法,对单源电子束蒸发的光学薄膜的膜厚均匀性控制进行了研究,同时对修正板的放置位置进行了计算。相对于传统修正板置于蒸发源正上方的方法,采用极坐标法计算得到的修正板位置更有利于控制膜厚分布的均匀性。以蒸发H4和MgF2为例,分别对高、低折射率材料的修正板位置和形状进行计算,并利用这两种材料分别制备单层膜,实测光谱均匀性偏差优于0.3%,证明了所提方法的正确性与可行性。
薄膜 光学镀膜 膜厚均匀性 修正板 光学学报
2019, 39(12): 1231001
1 中国科学院,光电技术研究所,成都,610209
2 中国科学院研究生院,北京,100039
研究了2.2 m高真空箱式镀膜机镀膜时的实际膜厚分布情况.对非球面和平面光学元件,分别采用行星夹具和平面公转夹具并利用修正板调节膜厚均匀性.从实验上实现了大口径薄膜均匀性的调节,并获得较为理想的结果.口径在700 mm范围内,对于凹面均匀性可以控制在0.7%以内,平面均匀性在1%以内;口径在1 200 mm范围内凹面元件均匀性可控制在1%以内,平面1 300 mm口径以内窗口均匀性可控制在1%以内.镀制了口径在400～1 300 mm的多种天文观测上使用的反射镜、增透膜等,获得了理想的光谱曲线与较好的使用效果.
大口径光学元件 薄膜 均匀性 修正板 修正
1 中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209
2 中国科学院研究生院,北京,100039
介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法.研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正.分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正.实验结果表明,修正后的均匀性结果优于1%,能满足实际应用的要求;靶摆动修正的均匀性结果优于修正板技术.
离子束溅射 Ta205薄膜 膜厚均匀性 修正板
