日常验配框架眼镜会遇到试戴时视觉感受良好，但配装眼镜却出现戴镜不适的情况。造成配戴不适的常见原因包括：镜眼距离、倾斜角、面弯及镜眼前后曲面设计的变化，配装应力异常，瞳距配装错误，视力表选择，镜片阿贝数、折射率和膜层的变化等。验光师在实际工作中可按照上述分析逐一排查并处理。

微棱镜型反光膜存在着有效入射角范围小（广角性）和不同方位角的逆反射效率相差大（方向各异性）的问题，解决上述问题较为简单的方法是改变角锥（CCR）单元倾斜角和采用拼接结构。基于几何光学原理，使用光线追踪软件计算了不同结构的CCR阵列。基于微棱镜反光膜的逆反射原理，分析了CCR单元的倾斜角度、入射光角度和拼接结构对逆反射效率的影响。结果表明，当使用倾斜CCR阵列时，方位角0°方向的逆反射效率提高了20个百分点以上。采用不同倾斜角拼接结构后，不同方向逆反射效率的最大偏差降低了10%以上。将CCR阵列倾斜角的仿真结果与反光膜的亮度测试结果进行对比，发现逆反射效率的变化趋势一致，证实了仿真模型的可靠性。以上研究结果可用于微棱镜反光膜的结构设计和优化。

以激光选区熔化TC4构件为研究对象，研究了倾斜角对构件内部结构成形精度的影响。设计了具有不同倾斜孔道结构的TC4构件，采用优化后的参数打印成形。采用工业计算机断层成像设备观察样品的内部结构，并建立逆向三维模型，将其与设计模型导入PolyWorks软件中进行拟合和对比，从而检测该试样内部结构悬垂面的表面偏差程度和表面质量。结果表明，倾斜角对TC4构件内部结构的悬垂程度和表面质量具有很大影响：当倾斜角增大到50°左右时，激光选区熔化TC4成形件内部结构悬垂面的表面偏差程度明显变小，且打印质量明显提升；而当倾斜角继续增大时，激光选区熔化TC4成形件内部结构悬垂面的表面偏差程度明显变大，且打印质量明显下降。

为了提高大口径平面镜面形检测的精度和效率, 提出了一种新的五棱镜扫描法。该方法采用径向扫描的方式, 使用一个扫描的五棱镜和一台自准直仪来测量表面倾斜角的差值, 然后将被测平面镜的面形表示为Zernike多项式的线性组合, 再利用表面倾斜角的差值建立方程组, 最后采用最小二乘法计算得到被测平面镜的面形。在检测过程中, 该方法还可以对五棱镜在扫描过程中的倾斜变化量进行自动监视和调整, 减小了检测误差。误差分析表明, 该方法的面形检测精度为76 nm rms(均方根误差)。采用该方法对一块15 m口径的平面镜进行了面形检测, 并与Ritchey-Common法的检测结果进行了对比, 两种方法面形结果的差异为71 nm rms, 小于五棱镜扫描法的面形检测精度。证明了利用该五棱镜扫描法检测大口径平面镜面形的正确性。

为了验证用于测量物体表面形貌的双圈同轴型光纤传感器的数学模型的可行性、优化新结构光纤传感器中的参量以提高光纤传感器线性测量范围和灵敏度,采用了不影响调制特性曲线前坡数据的镜子纸作为反射面进行试验验证,并对新结构的光纤传感器进行了理论分析和数学建模,然后采用粒子群算法对新结构中的倾斜角度进行了优化。结果表明,以镜子纸为反射面所得的试验曲线与仿真调制特性曲线吻合,证明了用于测量物体表面形貌的双圈同轴型光纤传感器的数学模型的可行性；经粒子群算法优化后的倾斜角度为2.33°,此时前坡线性测量区间和灵敏度分别是倾斜角为零时的1.14倍和1.89倍。新结构的双圈同轴型光纤传感器展现出了良好的测量性能和应用前景。

为了解决单台经纬仪室内姿态测试问题,在平行光管焦平面位置处放置刻有不同倾斜角线条的目标板,用以模拟无穷远目标的姿态。建立了目标板各象限线条中轴线上的点坐标与全站仪测试角度之间关系的数学模型,设计了测试用目标板,用全站仪对目标板各线条中轴线上的点进行了采样测试,通过数学模型解算出了线条中轴线的倾斜角。实验结果表明,1 #与2#线条中轴线夹角模拟误差为0.160°,1#与3#线条中轴线夹角模拟误差为0.046°,可以满足单站图像中轴线斜率提取误差最大值为0.6°的要求。

在单层聚苯乙烯小球模板上，制备了大面积倾斜L形手性结构.通过倾斜角沉积技术,在小球的一侧生长二氧化硅，在二氧化硅上面沉积金属层; 在垂直方向沉积另一金属层,使两个金属层具有不同高度从而形成倾斜L形手性结构.研究发现，通过控制二氧化硅的厚度，可以实现倾斜L形手性结构的圆二色性的调控.数值模拟结果表明，倾斜L形手性结构的圆二色性机制符合Born-Kuhn模型理论.

横向聚焦波荡器可用于电子束能量较低、β函数较小的情况。在现有横向聚焦波荡器设计方案的基础上, 通过倾斜磁块端面和磁极面提出了几种不同结构的横向聚焦波荡器方案。利用三维磁场模拟程序Radia, 对这些波荡器的聚焦场特性进行了模拟计算, 对其聚焦特性与主要参数的关系进行了研究, 并与现有其他横向聚焦波荡器的聚焦特性进行了对比。对弱聚焦和强聚焦两种情况, 分别给出较好的结构方案。对于弱聚焦, 平均聚焦梯度随中心场强的增大而略有增大, 变化不明显; 对于强聚焦, 平均聚焦梯度随中心场强的增大而明显增大, 呈高次曲线关系。